发明名称 A NEW PROCESS OF DUAL DAMASCENE STRUCTURE
摘要
申请公布号 SG90054(A1) 申请公布日期 2002.07.23
申请号 SG19990002990 申请日期 1999.06.21
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD 发明人 LAP CHAN;CHA CHER LIANG;LOH WYE BOON
分类号 (IPC1-7):H01L20/00 主分类号 (IPC1-7):H01L20/00
代理机构 代理人
主权项
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