发明名称 光学波阵面调节器
摘要 一种光学波阵面调节器(27)适合用来修改通过调节器的光束的波阵面。调节器包括第一和第二透明电极层(42,43)和布置在电极层之间的一个扁平介质(46),按照介质受到的电激励来修改波阵面。电极层适合对介质平面内的光束截面的半径施加第一阶的第一波阵面修改,并且同时对半径施加不同于第一阶的第二阶第二波阵面修改。
申请公布号 CN1354876A 申请公布日期 2002.06.19
申请号 CN00806721.X 申请日期 2000.12.19
申请人 皇家菲利浦电子有限公司 发明人 J·瓦尔斯;J·J·弗雷亨;S·斯塔林加
分类号 G11B7/135;G02B27/00;G11B7/095 主分类号 G11B7/135
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王岳;张志醒
主权项 1.一种用来修改通过调节器的一个光束的波阵面的光学波阵面调节器,该调节器包括第一和第二透明电极层和一个布置在电极层之间的介质,按照受到的电激励来修改在介质的平面上有一个截面的光束的波阵面,其特征在于电极层适合对截面的半径施加第一阶的第一波阵面修改,并且同时对半径施加不同于第一阶的第二阶第二波阵面修改。
地址 荷兰艾恩德霍芬