| 摘要 |
<p>Système et procédé pour appliquer un développeur sur une couche (42, 62) de matière photosensible située sur un substrat (44, 64). Les système et procédé de développeur utilisent une plaque (41, 61) de développement comportant une pluralité d'orifices (47, 67) pour distribuer le développeur. La plaque (41, 61) de développement est placée au-dessus du substrat (44, 64) et entoure sensiblement et/ou complètement la surface supérieure du substrat (44, 64) pendant l'application du développeur. Un petit espace (50, 69) est formé entre le substrat (44, 64) et la surface inférieure de la plaque (41, 61) de développement. Le substrat (44, 64) et la plaque (41, 61) de développement forment une paire de plaques parallèles permettant de réduire suffisamment l'espace (50, 69) afin que celui-ci (50, 69) puisse être rempli rapidement de fluide de développement. Une tension différentielle est appliquée sur la plaque (41, 61) de développement et sur le substrat (44, 64), provoquant dans l'espace (50, 69) la formation d'un champ électrique (118) qui facilite le transport de matière photosensible chargée négativement pendant le processus de développement.</p> |
