| 发明名称 |
Method of manufacturing insulating layer and semiconductor device including insulating layer, and semiconductor device formed thereby |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0208490(D0) |
申请公布日期 |
2002.05.22 |
| 申请号 |
GB20020008490 |
申请日期 |
2002.04.12 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
C23C16/42;C23C16/40;C23C16/56;H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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