发明名称 SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
摘要 <p>Die Erfindung schlägt eine Halbleiteranordnung mit einem Substrat vor, das wenigstens ein darin integriertes Bauelement aufweist und auf dessen erster Hauptseite eine Metallisierung vorgesehen ist. Zumindest Teile der Metallisierung sind mit einer in dem Substrat gelegenen Isolationsschicht unterlegt. Dadurch, dass die Isolationsschicht in Form eines Trench-Gitters realisiert ist, können parasitäre Kapazitäten und unerwünschte Signalleistungsverluste bei hochfrequenten Signalen reduziert werden.</p>
申请公布号 WO0217399(A8) 申请公布日期 2002.05.02
申请号 WO2001DE02701 申请日期 2001.07.18
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;BRENNER, PIETRO 发明人 BRENNER, PIETRO
分类号 H01L23/52;H01L21/3205;H01L21/762;(IPC1-7):H01L23/64;H01L21/02 主分类号 H01L23/52
代理机构 代理人
主权项
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