发明名称 |
SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF |
摘要 |
<p>Die Erfindung schlägt eine Halbleiteranordnung mit einem Substrat vor, das wenigstens ein darin integriertes Bauelement aufweist und auf dessen erster Hauptseite eine Metallisierung vorgesehen ist. Zumindest Teile der Metallisierung sind mit einer in dem Substrat gelegenen Isolationsschicht unterlegt. Dadurch, dass die Isolationsschicht in Form eines Trench-Gitters realisiert ist, können parasitäre Kapazitäten und unerwünschte Signalleistungsverluste bei hochfrequenten Signalen reduziert werden.</p> |
申请公布号 |
WO0217399(A8) |
申请公布日期 |
2002.05.02 |
申请号 |
WO2001DE02701 |
申请日期 |
2001.07.18 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG;BRENNER, PIETRO |
发明人 |
BRENNER, PIETRO |
分类号 |
H01L23/52;H01L21/3205;H01L21/762;(IPC1-7):H01L23/64;H01L21/02 |
主分类号 |
H01L23/52 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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