| 发明名称 |
Fotoempfindliche Zusammensetzungen mit gesteuertem Säuregrad für Offsetdruck |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69619722(D1) |
申请公布日期 |
2002.04.18 |
| 申请号 |
DE19966019722 |
申请日期 |
1996.04.22 |
| 申请人 |
PLURIMETAL S.R.L., VALLESE DI OPPEANO |
发明人 |
RINALDI, RINALDO |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/023;(IPC1-7):G03F7/023 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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