| 摘要 |
Um ein elektrisches oder elektronisches Bauteil (100), aufweisend ein Trägersubstrat (10) aus halbleitendem oder isolierendem Material; mindestens eine im Trägersubstrat (10) vorgesehene Ausnehmung (12), insbesondere Kavität oder Vertiefung; mindestens ein in der Ausnehmung (12) implantiertes Bauelement (14), dessen mindestens eine elektrisch leitende Kontaktfläche (16) aufweisende Oberfläche dem Boden- und/oder Wandbereich (18) der Ausnehmung (12) zugewandt ist und im Boden- und/oder Wandbereich (18) der Ausnehmung (12) kontaktiert ist; und mindestens ein Füllmaterial (20), mittels dessen das in der Ausnehmung (12) implantierte Bauelement (14) insbesondere mit den Rändern der Ausnehmung (12) versiegelt ist, sowie ein Verfahren zum Herstellen desselben zu schaffen, bei denen im Vergleich zum Stand der Technik größere Toleranzen in der Lage und insbesondere in der Verkippung des in der Ausnehmung (12) implantierten Bauelements (14) zugelassen werden können, wird vorgeschlagen, dass mindestens eine vom Boden- und/oder Wandbereich (18) der Ausnehmung (12) auf die Oberfläche (28) des Trägcrsubstrats (10) führende, elektrisch leitende Kontaktbahn (22) vorgesehen ist und dass zwischen der jeweiligen Kontaktfläche (16) des Bauelements (14) und dem jeweiligen, sich im Boden- und/oder Wandbereich (18) der Ausnehmung (12) befindlichen Abschnitt der Kontaktbahn (22) mindestens ein elektrisch leitendes Verbindungselement (24) angeordnet ist, durch das die Kontaktfläche (16) des Bauelements (14) mit dem sich im Boden- und/oder Wandbereich (18) der Ausnehmung (12) befindlichen Abschnitt der Kontaktbahn (22) verbunden ist. <IMAGE> |
