微石版印刷缩小物镜,投影曝光设备及方法

摘要

本发明系有关一种微石版印刷投影物镜，包括一透镜配置，其由具正折光功率之第一组透镜(LG1)，具负折光功率之第二组透镜(LG2)，具正折光功率之第三组透镜(LG3)，具负折光功率之第四组透镜(LG4)，具正折光功率之第五组透镜(LG5)组成，系统光阑(AS)设在第五组透镜(LG5)中，且该组透镜(LG5)之至少两透镜位在系统光阑(AS)前方。像侧数值孔径大于0.65(实施例中达0.8)，或该组透镜(LG5)至少由13个透镜(L18-L31)组成，或系统光阑(AS)设在第五组透镜中，且在光束具最大直径之透镜(L22)与相邻两透镜(L21，L23)范围中。

主权项

1.一种微石版印刷投影物镜,包括一透镜配置,其由 具正折光功率之第一组透镜(LG1), 具负折光功率之第二组透镜(LG2), 具正折光功率之第三组透镜(LG3), 具负折光功率之第四组透镜(LG4), 具正折光功率之第五组透镜(LG5) 组成,其特征在于, 像侧数値孔径大于0.65,最好是大于0.68,系统光阑(AS )设在第五组透镜中,且该组透镜(LG5)之至少两透镜 位在系统光阑(AS)前方。2.一种微石版印刷投影物 镜,包括一透镜配置,其由 具正折光功率之第一组透镜(LG1),具负折光功率之 第二组透镜(LG2),具正折光功率之第三组透镜(LG3), 具负折光功率之第四组透镜(LG4),具正折光功率之 第五组透镜(LG5)组成,其特征在于,系统光阑设在第 五组透镜(LG5)中,该组透镜(LG5)之至少两透镜(L18,L19 ,L20,L21)位在系统光阑(AS)前方,且该组透镜(LG5)至少 由13个透镜(L18-L31)组成。3.如申请专利范围第1项 或第2项所述之微石版印刷投影物镜,其中系统光 阑(AS)设在两聚光透镜(L21,L22)之间,且像侧直接接 另一聚光透镜(L23)。4.如申请专利范围第1项或第2 项所述之微石版印刷投影物镜,其中第五组透镜(LG 5)的第一个透镜(L18)是一凹向物侧的弱折射弯月形 透镜。5.如申请专利范围第1项或第2项所述之微石 版印刷投影物镜,其中系统光阑(AS)后方只有一个 凹向物侧的透镜(225,325)。6.根据申请专利范围第5 项之所述之微石版印刷投影物镜,其中凹向物侧的 透镜(325)是一厚弯月形透镜。7.根据申请专利范围 第5项之所述之微石版印刷投影物镜,其中凹向物 侧的透镜(225)隔一狭小空气缝隙接一聚光透镜(226) 。8.根据申请专利范围第7项所述之微石版印刷投 影物镜,其中空气缝隙凹向物侧。9.根据申请专利 范围第1项或第2项所述之微石版印刷投影物镜,其 中系统光阑(AS)后方只有一对凹向物侧的透镜(L24,L 25),其以一狭小空气缝隙彼此隔开。10.根据申请专 利范围第9项所述之微石版印刷投影物镜,其中空 气缝隙凹向物侧。11.一种微结构元件制造法,其使 用具申请专利范围第10项之所述特征之一投影曝 光设备,应用微石版印刷多次曝光,其中不同的曝 光可设定不同的照明方式及/或数値孔径。12.根据 申请专利范围第1项或第2项所述之微石版印刷投 影物镜,其中缩小光阑至数値孔径的70%时,失真在10 nm以下,最好是6nm以下。13.一种微石版印刷投影物 镜,包括一透镜配置,其由 具正折光功率之第一组透镜(LG1), 构成第一光腹(B1), 具负折光功率之第二组透镜(LG2), 构成第一光腰(T1), 具正折光功率之第三组透镜(LG3), 构成第二光腹(B2), 具负折光功率之第四组透镜(LG4), 构成第二光腰(T2), 具正折光功率之第五组透镜(LG5), 构成第三光腹(B3), 组成,其特征在于, 系统光阑(AS)设在第五组透镜中,且光束在透镜(L22) 与相邻两透镜(L21,L23)区域中具最大直径。14.根据 申请专利范围第1项、第2项或第13项所述之微石版 印刷投影物镜,其中系统光阑(AS)设在第五组透镜( LG5)的两聚光透镜(L21,L22)之间。15.根据申请专利范 围第1项、第2项或第13项所述之微石版印刷投影物 镜,其中第二组透镜(LG2)至少包括两负透镜(206,208- 210)及一正透镜(207)。16.根据申请专利范围第1项、 第2项或第13项所述之微石版印刷投影物镜,其中第 一透镜(201)凹向物侧。17.根据申请专利范围第1项 、第2项或第13项所述之微石版印刷投影物镜,其中 在第四组透镜(LG4)范围处有三个负透镜(L15-L17)围 绕第二光腰(T2)。18.根据申请专利范围第1项、第2 项或第13项所述之微石版印刷投影物镜,其中最后 一个透镜(L31)前方之所有透镜边光i角之正弦( siniedge)小于物侧数値孔径(NA)即(siniedge