| 主权项 |
1.一种流量控制装置,用来控制一化学液供应设备所供应之化学液流量,该化学液供应设备系包含有一储存槽用来储存该化学液,一液体管线用来将该储存槽内之化学液导入一置有半导体晶片之制程室,一加压装置用来对该储存槽内之化学液施压,以使该化学液得以经由该液体管线流至该制程室,该流量控制装置包含有:一流量感测器,设于该液体管线上,用来测量该液体管线内之化学液流量并产生一相对应之流量测量値;一控制单元,其包含有:一设定装置,用来设定一流量目标値;以及一处理器,电连接于该流量感测器以及该加压装置,用来依据该流量目标値以及该流量测量値之间的差距来产生一控制讯号至该加压装置以调整该液体管线内之化学液流量,直到该流量测量値趋近至该流量目标値为止。2.如申请专利范围第1项之流量控制装置,其中该控制单元之设定装置另包含有一显示器,用来显示该流量目标値以及该流量测量値。3.如申请专利范围第1项之流量控制装置,其中该加压装置包含有:一高压气体源,用来经由一气体管线对该储存槽提供高压气体;以及一电空比例控制阀,设于该气体管线上,并电连接于该控制单元,用来依据该处理器所传来之控制讯号来调节该高压气体源流入该储存槽之气体压力。4.如申请专利范围第1项之流量控制装置,其中该流量感测器包含有:一中空圆管,垂直地与该液体管线相串联,用来使该液体管线内之化学液得以向上流过其中;一阻流磁蕊,置于该中空圆管之底部,其中向上流经该中空圆管内之化学液的流量会改变该阻流磁蕊于该中空圆管内的位置;一第一及第二导电线圈,缠绕于该中空圆管之外壁,其中该第一导电线圈系用来输入一交流电以使该中空圆管内产生一磁通量,而该第二导电线圈则系用来感应该中空圆管内之磁通量变化并产生一相对应之感应电流;其中当该阻流磁蕊于该中空圆管内的位置被改变时,该第二导电线圈会因此而感应到该阻流磁蕊于该中空圆管内所引起之磁通量变化,而该处理器则可依此而取得该液体管线内之流量测量値。图式简单说明:图一为习知半导体制程之化学液供应设备的示意图。图二为本发明之可调整化学液流量之流量控制装置的结构示意图。图三为本发明流量控制装置之流量感测器的内部结构示意图(静止时)。图四为本发明流量控制装置之流量感测器的内部结构示意图(操作时)。图五为本发明流量控制装置之流量感测器的外部结构示意图。图六为本发明为本发明流量感测器之另一实施例的外部结构示意图。 |
