发明名称 具有弱局限波导区段与强局限波导区段、并以锥形颈对该两区段加以光学接合之光波导
摘要 一种光波导,包含一第一波导区段,对该光讯号具有弱局限能力,即将该光讯号局限在一大致与该传输方向垂直之方向中;一第二波导区段,对该光讯号具有强局限能力,即将该光讯号局限在相对于传输方向的所有方向中;一渐细形颈,位于该第一及第二波导区段之间,以光学方式将该第一及第二波导区段耦合在一块;及一轴蕊,贯穿于该第一、第二波导区段及渐细形颈中,而通过该轴蕊之光讯号可在传输方向中行进。此外,本发明还揭示一种制造该种光波导的方法。
申请公布号 TW479387 申请公布日期 2002.03.11
申请号 TW089124828 申请日期 2000.11.22
申请人 那诺维逊科技股份有限公司 发明人 卡德黑阿汉买力;克里斯多佛T 尤特西
分类号 H01S3/05 主分类号 H01S3/05
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种光波导,一光讯号可在该光波导中沿一传输方向及一光径行进,该波导至少包含:一第一波导区段,对该光讯号具有弱局限能力,即将该光讯号局限在一大致与该传输方向垂直之方向中;一第二波导区段,对该光讯号具有强局限能力,即将该光讯号局限在相对于传输方向的所有方向中;一渐细形颈,位于该第一及第二波导区段之间,以光学方式将该第一及第二波导区段耦合在一块;及一轴蕊,贯穿于该第一、第二波导区段及渐细形颈中,而通过该轴蕊之光讯号可在传输方向中行进。2.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该渐细形颈同时在宽度及厚度方向上呈渐细走势。3.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第一波导区段为一带状波导。4.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第二波导区段为一带状波导。5.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第一波导区段之宽度至少为2微米。6.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第二波导区段之宽度不超过约1微米。7.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该渐细形颈宽度之渐细速率为第一速率。8.如申请专利范围第7项所述之波导,其中该渐细形颈厚度之渐细速率为第二速率。9.如申请专利范围第8项所述之波导,其中该第一及第二速率大致为定値。10.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该渐细形颈具有宽度、厚度及长度,其中在整个长度上看去,该宽度渐减,而该厚度渐增。11.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第一及第二波导区段中至少一者为一单一模态波导。12.如申请专利范围第1项所述之波导,其中该第一波导区段、该第二波导区段及该渐细形颈以整合之方式形成于一基材之上。13.一种制造一波导的方法,其中该波导能在一传输方向上传送光,而该传输方向上包含一第一波导区段及一第二波导区段,其中该第一波导区段对传输其中的光讯号提供以在一大致与该传输方向垂直之方向上的弱局限能力,而该第二波导区段对传输其中的光讯号提供以在相对于该传输方向之所有方向上的强局限能力,该方法至少包含下列步骤:(a)提供一胚料,该胚料至少包含一基材、该基材上之一层轴蕊材料及该层轴蕊材料上之一层护层材料,其中每一者之特定光学特性都能使得在适当处理之后光能为该基材及该护层局限于该轴蕊中;及(b)移去该护层及该基材之一部份,以得到渐细形区段,并使该第一波导区段及该第二波导区段间之渐细形区段的宽度及厚度成相反之变化。14.如申请专利范围第13项所述之方法,其中该移去步骤至少包含蚀刻法。15.如申请专利范围第13项所述之方法,其中该步骤(b)至少包含下列步骤:提供一乾蚀刻遮罩,该遮罩在一平面上具有一第一预定形状,并在相对于该平面之一厚度方向中有一第二预定形状,该两预定形状对应于该第一波导区段、该第二波导段及该渐细形区段之形状:将该乾蚀刻遮罩置于考近该胚料之处;及乾蚀刻该护层,以得到该渐细形区段,其中该渐细形区段的宽度从该第一至该第二波导区段的方向看去是渐减的,而该渐细形区段的厚度从该第一波导区段至该第二波导区段的方向看去则为渐增的。图式简单说明:第1图为根据本发明一实施例所建构之波导的前视图;第2A图为截自第1图之线2A-2A所得到的剖面图;第2B图为截自第1图之线2B-2B所得到的剖面图;第2C图为截自第1图之线2C-2C所得到的剖面图。第2D图为第1图之波导的上视图;第3A及3B图为一可变厚度遮罩的边剖面图及前视图,其中该遮罩适用于制造本发明之波导的一种方法中;及第4图为一种未加以处理之适当胚料材料的前视图,该胚料可行成本发明提出之波导;
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