| 发明名称 |
Procédé de dopage de corps semiconducteurs au moyen de bore constituant la substance des impuretés |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR1284797(A) |
申请公布日期 |
1962.02.16 |
| 申请号 |
FR19610855739 |
申请日期 |
1961.03.15 |
| 申请人 |
SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
C30B31/04;H01L21/00;H01L21/228;H01L21/24;H01L29/167 |
主分类号 |
C30B31/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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