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发明名称 METHOD FOR PROCESSING OUTLINE OF SHADOW MASK
摘要
申请公布号 KR20010102727(A) 申请公布日期 2001.11.16
申请号 KR20000024311 申请日期 2000.05.08
申请人 LG MICRON CO., LTD. 发明人 SONG, NAK HO
分类号 (IPC1-7):H01J9/02 主分类号 (IPC1-7):H01J9/02
代理机构 代理人
主权项
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