发明名称 METHOD FOR THE PURIFICATION OF EFFLUENT WATER FROM CHIP PRODUCTION
摘要 <p>Die Erfindung beschreibt zur Reinigung von mit Silizium belastetem Abwasser aus der Chipproduktion. Das erfindungsgemäße Verfahren besitzt den Vorteil, dass auf einfache und kostengünstige Weise das im Abwasser enthaltene Silizium nahezu vollständig aus dem Abwasser entfernt werden kann. Ein Metallsalz und eine Lauge führen dazu, dass die Siliziumteilchen mittels Co-Fällung eingebunden werden und sich somit als eine Art Schlamm absetzen, so dass sie aus dem Abwasser entfernt werden können.</p>
申请公布号 WO2001085619(A1) 申请公布日期 2001.11.15
申请号 EP2001005219 申请日期 2001.05.08
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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