发明名称 参胺基四羧酸基化合物与以该化合物作为配位子之顺磁性金属错合物
摘要 本发明提供一种参胺基四羧酸基化合物,其可作为配位子与金属离子配位而形成具有顺磁性的金属错合物。本发明之顺磁性金属错合物可作为磁振造影对比剂。
申请公布号 TW461876 申请公布日期 2001.11.01
申请号 TW089102941 申请日期 2000.02.21
申请人 行政院国家科学委员会 台北巿和平东路二段一○六号十八楼 发明人 王云铭;刘金昌;郑粲煌;李韦宗;许瑞昇
分类号 C07C211/14;C07D307/52;C07D309/32;C07D277/28;C07D207/335;C07D213/38;C07F19/00;A61K49/00 主分类号 C07C211/14
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种具有下列化学式(I)的三胺基四羧酸基化合 物: 其中 R为-(CH2)a-Y或经羟基取代之C1-C6烷基,其中a为1-3之 整数,Y为择自由咯基(pyrrolyl)、啶基(pyridyl)、 喃基(furyl)、喃基(pyranyl)、和嗯基(thienyl)所 组成之族群中; R1=-(CH2)m-或-(CH2)m-X-(CH2)m-,其中m=2-4,X=-O-或-S-, R2=-(CH2)n-或-(CH2)n-X-(CH2)n-,n=2-4,X=-O-或-S-。2.如申请 专利范围第1项所述之化合物,其中Y为啶基( pyridyl),a为1。3.如申请专利范围第1项所述之化合 物,其中R为含有羟基之C1-C6烷基。4.如申请专利范 围第3项所述之化合物,其中R为-CH2-C(OH)R3,R3为H、直 链或支链之饱和之C1-C4烷基。5.如申请专利范围第 4项所述之化合物,其中R3为直链之C1-C4烷基。6.如 申请专利范围第5项所述之化合物,其中R3为甲基。 7.如申请专利范围第1项所述之化合物,其中R1为-(CH 2)m-,m=2-4,R2为-(CH2)n-,n=2-4。8.如申请专利范围第7项 所述之化合物,其中m=2,n=2。9.如申请专利范围第7 项所述之化合物,其中m=2,n=3。10.如申请专利范围 第1项所述之化合物,其中R1为-(CH2)m-,m=2-4,R2为-(CH2)n -X-(CH2)n-,n=2-4,X=-O-或-S-。11.如申请专利范围第1项 所述之化合物,其中R1为-(CH2)m-X-(CH2)m-,m=2-4,X=-O-或-S -,R2为-(CH2)n-,n=2-4。12.如申请专利范围第1项所述之 化合物,其中R1为-(CH2)m-X-(CH2)m-,m=2-4,R2为-(CH2)n-X-(CH2 )n-,n=2-4,X=-O-或-S-。13.一种可用作为一磁振造影对 比剂的具顺磁性之金属错合物,其具有ML的化学结 构, 其中 M为中心金属离子,系择自由镧系金属、锰、铁、 钴、铜、镍、及铬金属离子所组成的族群中, L为一有机配位子,其具有如下所示之化学式: 其中 R为-(CH2)a-Y或经羟基取代之C1-C6烷基,其中a为1-3之 整数,Y为择自由咯基(pyrrolyl)、啶基(pyridyl)、 喃基(furyl)、喃基(pyranyl)、和嗯基(thienyl)所 组成之族群中; R1=-(CH2)m-或-(CH2)m-X-(CH2)m-,其中m=2-4,X=-O-或-S-, R2=-(CH2)n-或-(CH2)n-X-(CH2)n-,n=2-4,X=-O-或-S-。14.如申请 专利范围第13项所述之金属错合物,其中该金属离 子为钆(+3价),铁(+3价)或锰(+2价)。15.如申请专利范 围第14项所述之金属错合物,其中该金属离子为钆( +3价)。16.如申请专利范围第13项所述之金属错合 物,其中R为含有羟基之C1-C6烷基。图式简单说明: 第一图为有机配位子DTPA-PY之电位滴定曲线图,T=25 0.1℃;I= 0.1 mol dm-3 (Me4NNO3)。 第二图为有机配位子DTPA-HP之电位滴定曲线图,T=25 0.1℃;I=0.1 mol dm-3 (Me4NNO3)。 第三图为有机配位子TTDA-PY之电位滴定曲线图,T=25 0.1℃;I=0.1 mol dm-3 (Me4NNO3)。 第四图为有机配位子TTDA-HP之电位滴定曲线图,T=25 0.1℃;I=0.1 mol dm-3 (Me4NNO3)。 第五图为在不同pD値下,DTPA-PY的1H-NMR光谱图。 第六图为在不同pD値下,DTPA-HP的1H-NMR光谱图。 第七图为在不同pD値下,DTPA-PY对化学位移()之滴 定曲线图。 第八图为在不同pD値下,DTPA-HP对化学位移()之滴 定曲线图。 第九图为在不同pD値下,TTDA-PY对化学位移()之滴 定曲线图。 第十图为有机配位子DTPA-PY及与不同金属离子1:1比 例之电位滴定曲线图,T=25.00.1℃,I=0.1 mol dm-3 (Me4NNO 3),L表配位子。 第十一图为有机配位子DTPA-HP及与不同金属离子1:1 比例之电位滴定曲线图,T=25.00.1℃,I=0.1mol dm-3 (Me4 NNO3),L表配位子。 第十二图为有机配位子TTDA-PY及与不同金属离子1:1 比例之电位滴定曲线图,T=25.00.1℃,I=0.1mol dm-3 (Me4 NNO3),L表配位子。 第十三图为有机配位子TTDA-HP及与不同金属离子1:1 比例之电位滴定曲线图,T=25.00.1℃,I=0.1mol dm-3 (Me4 NNO3),L表配位子。 第十四图为DTPA-PY与(1)Ca2+、(2)Zn2+、(3)Cu2+、(4)Gd3+ 之金属错合物的平衡常数对电荷密度关系图。 第十五图为DTPA-HP与(1)Ca2+、(2)Zn2+、(3)Cu2+、(4)Gd3+ 之金属错合物的平衡常数对电荷密度关系图。 第十六图为TTDA-PY与(1)Ca2+、(2)Zn2+、(3)Cu2+、(4)Gd3+ 之金属错合物的平衡常数对电荷密度关系图。 第十七图为TTDA-PY与(1)Ca2+、(2)Zn2+、(3)Cu2+、(4)Gd3+ 之金属错合物的平衡常数对电荷密度关系图。 第十八图为1.010-3 mol dm-3 DTPA- PY在不同pH値之各物 种之百分比分布曲线图。 第十九图为2.010-3 mol dm-3 DTPA-HP在不同pH値之各物 种之百分比分布曲线图。 第二十图为2.010-3 mol dm-3 [Gd(DTPA-PY)]-在不同pH値之 [Gd3+]及[Gd(DTPA-PY)]-百分比分布曲线图。 第二十一图为2.010-3 mol dm-3 [Gd(DTPA-HP)]-在不同pH値 之[Gd3+]及[Gd(DTPA-HP)]-百分比分布曲线图。 第二十二图为(1)[Gd(TTDA)]2-、(2)[Gd(TTDA-PY)]-、(3)[Gd( DTPA)]2-、(4)[Gd(DTPA-PY)]-、(5)[Gd(TTDA-HP)]2-、及(6)[Gd( DTPA-HP)]在不同pH値条件下之稳定常数。 第二十三图为Dy(III)-induced H2O17 O-NMR位移对DyCl3.[Dy( DTPA-HP)]-及[Dy(DTPA-PY)]-浓度作图。 第二十四图为(1)[Gd(DTPA-HP)]-、(2)[Gd(TTDA-HP)]-、(3)[Gd (DTPA-PY)]-、(4)[Gd(TTDA-PY)]-、及(5)[Gd(DTPA-BMA)]在不同 pH値条件下之弛缓率R1,20MHz,370.1℃。 第二十五图为对照组大白鼠注射0.1 mmol/kg[Gd(DTPA-PY )]-之冠状切面影像TlWI(300/20 ms),(A)注射前,(B)注射 后25分钟。箭头为肾窦,箭号为膀胱。 第二十六图为对照组大白鼠注射0.1 mmol/kg[Gd(DTPA-HP )]-之冠状切面影像TlWI(300/20 ms),(A)注射前,(B)注射 后15分钟。箭头所示之处为肾窦,箭号所示之处为 膀胱。 第二十七图为肝癌转移实验组大白鼠注射0.1 mmol/ kg[Gd(DTPA-PY)]-之轴状切面影像TlWI(400/20 ms),(A)注射 前,(B)注射后15分钟,(C)注射后60分钟。箭头所示之 处为转移肝癌。 第二十八图为肝癌转移实验组大白鼠注射0.1 mmol/ kg[Gd(DTPA-HP)]-之冠状切面影像TlWI(300/20 ms),(A)注射 前,(B)注射后20分钟,(C)注射后40分钟。箭头所示之 处为转移肝癌。
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