发明名称 | 单个多晶硅快闪电可擦除只读存储器及其制造方法 | ||
摘要 | 因此,本发明的示例性实施例涉及一种单多晶硅快闪EEPROM单元,能避免常规两个叠置栅极单元的不足,并容易与高性能逻辑技术结合。示例性的两个晶体管快闪EEPROM存储器单元阵列包括多个这样的快闪EEPROM单元,每个具有带位线(BL)和字线(WL)的选择晶体管,其中选择晶体管与浮栅晶体管(B)串联。浮栅晶体管具有形成在有纹理的单晶衬底(P)上的薄隧道氧化物。浮栅(A)也形成在衬底中的重掺杂区(n+)上,形成与浮栅容性耦合的耦合线,执行隧穿功能。 | ||
申请公布号 | CN1319255A | 申请公布日期 | 2001.10.24 |
申请号 | CN00801552.X | 申请日期 | 2000.05.24 |
申请人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 发明人 | J·A·昆宁哈姆 |
分类号 | H01L27/115 | 主分类号 | H01L27/115 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 陈霁;梁永 |
主权项 | 1.一种快闪EEPROM存储器单元,包括:由第一多晶硅层形成的带位线和字线的选择晶体管;由所述第一多晶硅层形成并与所述选择晶体管串联的浮栅晶体管,所述浮栅晶体管具有形成在有纹理单晶衬底上的隧道氧化物;以及形成在所述衬底中的重掺杂区,所述浮栅形成在所述重掺杂区上,所述重掺杂区形成与所述浮栅容性耦合的耦合线。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |