ARRAY OF MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAMLET EMITTING COLUMNS

摘要

본 발명은 그 각각이 타겟을 다수의 대전된 입자 빔들에 선택적으로 노출시키는 다수의 대전된 입자 빔 칼럼들을 포함하는 대전된 입자(전자) 칼럼들의 어레이를 사용하는 리소그래피 장치에 관한 것이다. 각 대전된 입자 빔 칼럼은 다수의 대전된 입자 빔들을 선택적으로 발생시키는 빔 소스; 다수의 대전된 입자 빔들을 빔 소스로부터 가속시키고 대전된 입자 빔들과 동축인 양극; 및 대전된 입자 빔들과 동축이고 대전된 입자 빔들을 축소시키는 렌즈를 포함한다. 빔 소스는 조사될 때 다중 전자 빔들을 선택적으로 공급하는 광전 음극 어레이이다.