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发明名称
Method of compensating for pattern dimension variation caused by re- scattered electron beam in electron beam lithography and recording medium in which the method is recorded
摘要
申请公布号
US6291119(B1)
申请公布日期
2001.09.18
申请号
US09/758708
申请日期
2001.01.11
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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