Integrated semiconductor memory with memory cells having ferroelectric memory effect

摘要

Ein integrierter Halbleiterspeicher weist Speicherzellen (MC) mit ferroelektrischem Speichereffekt auf, die zu Einheiten von Spaltenleitungen (BL1, BL2) und Zeilenleitungen (WL1, WL2) zusammengefaßt sind. Die Speicherzellen (MC) sind jeweils zwischen eine der Spaltenleitungen (BL1) und eine Ladeleitung (PL1) geschaltet. Die Spaltenleitung (BL1) ist an einen Leseverstärker (2) angeschlossen, an dem ein Ausgangssignal (S21) abgreifbar ist, die Ladeleitung (PL1) ist mit einer Treiberschaltung (3) verbunden, durch die die Ladeleitung (PL1) an einem vorgegebenen Potential (V1, GND) anliegt. Die Spaltenleitung (BL1) und die Ladeleitung (PL1) sind in einer inaktiven Betriebsart gemeinsam im Leseverstärker (2) oder in der Treiberschaltung (3) mit einem Anschluß (22) für ein gemeinsames Versorgungspotential (GND) verbunden. Dadurch ist ein relativ schneller Potentialausgleich zwischen den Leitungen (BL1, PL1) möglich. Es kann dadurch eine unbeabsichtigte Veränderung des Speicherzelleninhalts infolge von Störspannungen vergleichsweise gering gehalten werden. <IMAGE>