发明名称 用于洗清载体之系统
摘要 一种坐设于一SMIF匣体支承平台内之阀,系用于启动及停止气体流动至平台上之一匣体。在较佳实例中,阀包括一提升阀,其可移动于一令提升阀阻止气体流过阀之第一封闭位置及一令提升阀容许气体流过阀之第二封闭位置之间。若支承平台上无一匣体,来自阀下游处气体源之气体即推压提升阀至第一位置,藉以阻止气体流动,在此第一位置,提升阀之一顶部略为延伸至匣支承平台之顶表面上方。当一匣体坐置于支承平台上时,匣体之重量将提升阀自其第一位置移至其第二位置,气体即可流过阀及流入匣体,以利洗清匣体。
申请公布号 TW449565 申请公布日期 2001.08.11
申请号 TW088121035 申请日期 2000.02.09
申请人 艾塞特工业公司 发明人 威廉J.佛斯奈;裘夏W.山克
分类号 B65B1/04 主分类号 B65B1/04
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种以一气体源气体洗清一载体之系统,系当载体接触于一支承表面时洗清载体,其包含:一阀,可安装于支承平台内,使得该阀之一部份系在无一施力推压该部分至该表面内时可突伸通过支承表面,阀可占据一第一状态,即气体不致流过阀,及一第二状态,即气体流过阀以洗清载体;其中由载体施加于突伸通过该支承表面之该阀部分上之一力系可自该第一状态启动该阀至该第二状态。2.如申请专利范围第1项之以一气体源气体洗清一载体之系统,其中来自气体源之气体将该阀推压至该第一位置。3.如申请专利范围第1项之以一气体源气体洗清一载体之系统,其中一弹簧将该阀推压至该第一位置。4.如申请专利范围第1项之以一气体源气体洗清一载体之系统,其中支承平台系一装填孔之组件。5.如申请专利范围第1项之以一气体源气体洗清一载体之系统,其中支承平台系一储存件之组件。6.如申请专利范围第1项之以一气体源气体洗清一载体之系统,其中支承平台系一洗清载体站之组件。7.一种以一气体源气体洗清一载体之系统,其包含:一支承平台,系在洗清期间用于支承载体;一阀,系安装于该支承平台内,该阀包括一部分,系在无一施力推压该部分向下时可至少局部突伸至该支承平台之一顶表面上方,阀可占据一第一状态,即气体不致流过阀,及一第二状态,即气体流过阀以洗清载体;其中下压于突伸至该支承平台顶表面上方之该阀部分之载体重量系可自该第一状态启动该阀至该第二状态。8.一种用于洗清一载体之系统,该系统包括一来自一第一气体源之洗清气体、一来自一第二流体源之工作流体及一第一阀,当第一阀在第一状态时第一阀容许洗清气体通过第一阀而可洗清载体,及当第一阀在一第二状态时第一阀防止洗清气体通过第一阀,该工作流体可在第一、二状态之间切换第一阀,系统包含:一支承平台,系在洗清期间用于支承承载体;一第二阀,可安装于支承平台内,使得该第二阀之一部分系在无一施力推压该部分至该表面内时可突伸通过支承表面,第二阀可占据一第一状态,即气体不致流过第二阀,及一第二状态,即工作流体通过第二阀以启动第一阀;其中由载体施加于突伸通过该支承表面之该第二阀部分上之一力系可自该第一状态启动该第二阀至该第二状态。9.一种用于转移及支承一载体之系统,其包含:一支承平台,用于支承载体,该支承平台包括第一及第二指形件,及包括一接近于该第一指形件一端之第一动态销、一接近于该第二指形件一端之第二动态销、及一设于该第一及第二指形件基部及其间之第三动态销,该第一及第二销占据次级位置及该第三动态销占据一初级位置;及一末端作用件,用于转移载体,该末端作用件包括第一及第二外指形件以及一中央指形件,及包括一沿着该第一外指形件长度之第四动态销、一沿着该第二外指形件长度之第五动态销、及一接近于该中央指形件一端之第六动态销,该第四及第五动态销占据初级位置及该第六动态销占据一次级位置。图式简单说明:第一图系包括本发明一较佳实例被动式气体流动阀之一匣体支承平台立体图;第二图系第一图所示匣体支承平台之立体分解图;第三图系本发明阀在其封闭位置以阻止气体流过阀之侧视截面图;第四图系本发明阀在其开启位置以容许气体流过阀之侧视截面图;第五图系本发明一变换实例阀在其封闭位置以阻止气体流过阀之侧视截面图;第六图系本发明又一变换实例阀在其封闭位置以阻止气体流过阀之侧视截面图;第七图系一习知末端作用件与匣体支承平台配置之顶视图,其容许匣体在末端作用件与支承平台之间交递;及第八图揭示本发明之一末端作用件与匣体支承平台,其容许匣体在末端作用件与支承平台之间交递。
地址 美国