| 发明名称 |
Method of and apparatus for processing photoresist, method of evaluating photoresist film, and processing apparatus using the evaluation method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0863438(B1) |
申请公布日期 |
2001.08.08 |
| 申请号 |
EP19980103684 |
申请日期 |
1998.03.03 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
AKIMOTO, MASAMI;YOSHIHARA, KOSUKE;FUKUDA, YUJI |
| 分类号 |
G03F7/16;H01L21/00;(IPC1-7):G03F7/16 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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