| 发明名称 |
Method and apparatus for forming an interlayer insulating film, and semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1039523(A3) |
申请公布日期 |
2001.08.08 |
| 申请号 |
EP20000100120 |
申请日期 |
2000.01.05 |
| 申请人 |
CANON SALES CO., INC.;SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY CO., LTD. |
发明人 |
MAEDA, KAZUO |
| 分类号 |
C23C16/40;C23C16/44;C23C16/515;C23C16/52;H01L21/31;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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