发明名称 |
关于肽合成的方法以及组合物 |
摘要 |
本发明首先涉及肽尤其是T-20(也称为“DP-178”;SEQ IDNO:1)和T-20样肽的合成方法。该方法利用固相或液相合成法合成和组合具体肽片段组,获得目的肽。本发明进一步涉及作为所述目的肽(例如T-20)合成中的中间体的各个肽片段。本发明更进一步涉及可一起用来产生全长T-20和T-20样肽的所述肽中间体片段组。 |
申请公布号 |
CN1303299A |
申请公布日期 |
2001.07.11 |
申请号 |
CN99806431.9 |
申请日期 |
1999.03.22 |
申请人 |
特莱默里斯公司 |
发明人 |
M·C·康;B·布雷;M·利克蒂;C·马德尔;G·梅鲁特卡 |
分类号 |
A61K38/00;C07K5/00;C07K7/00;C07K16/00;C07K17/00 |
主分类号 |
A61K38/00 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
谭明胜 |
主权项 |
1.合成下式肽的方法:Ac-YTSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2(SEQIDNO:1),该方法包括:(a)使式:Fmoc-EKNEQELLEL-COOH(SEQ ID NO:11)的侧链保护肽与式:NH2-DKWASLWNWF-NH2(SEQ ID NO:18)的侧链保护肽反应,产生下式侧链保护肽:Fmoc-EKNEQELLELDKWASLWNWE-NH2(SEQ ID NO:12);(b)使在(a)中产生的肽的氨基末端去保护;(c)使在(b)中产生的肽与式:Fmoc-YTSLIHSLIEESQNQQ-COOH(SEQ ID NO:4)的侧链保护肽反应,产生下式侧链保护肽:Fmoc-TSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2(SEQ ID NO:1);(d)使在(c)中产生的肽的氨基末端修饰为乙酰修饰物;和(e)使(d)的侧链保护肽的侧链去保护,产生下式肽:Ac-YTSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2(SEQ ID NO:1)。 |
地址 |
美国北卡罗莱纳州 |