发明名称 薄膜淀积系统
摘要 一种化学气相淀积装置,该装置包括用来把母料分配给位于汽化舱内的蒸发器的分配器。输送导管与处理舱一起参与蒸发。流量计位于输送导管内,以便测定通过输送导管的母料流量。另外,流量控制器也位于输送导管内,以便根据实测流速控制母料的流量。
申请公布号 CN1300328A 申请公布日期 2001.06.20
申请号 CN99805938.2 申请日期 1999.04.14
申请人 CVD系统公司 发明人 詹姆斯·F·洛恩;杰克·P·萨勒诺
分类号 C23C16/44;C23C16/54;H01L21/00 主分类号 C23C16/44
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 过晓东
主权项 1.一种化学处理装置,其中包括:一个包括蒸发器的汽化舱;一个与汽化舱流体连通的处理舱;以及一个流量控制器,它在处理舱中控制蒸汽从蒸发器至热基材的流动,其中所述热基材具有这样的反应表面以致薄膜将在该表面上形成。
地址 美国马萨诸塞州