发明名称 | 薄膜淀积系统 | ||
摘要 | 一种化学气相淀积装置,该装置包括用来把母料分配给位于汽化舱内的蒸发器的分配器。输送导管与处理舱一起参与蒸发。流量计位于输送导管内,以便测定通过输送导管的母料流量。另外,流量控制器也位于输送导管内,以便根据实测流速控制母料的流量。 | ||
申请公布号 | CN1300328A | 申请公布日期 | 2001.06.20 |
申请号 | CN99805938.2 | 申请日期 | 1999.04.14 |
申请人 | CVD系统公司 | 发明人 | 詹姆斯·F·洛恩;杰克·P·萨勒诺 |
分类号 | C23C16/44;C23C16/54;H01L21/00 | 主分类号 | C23C16/44 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
主权项 | 1.一种化学处理装置,其中包括:一个包括蒸发器的汽化舱;一个与汽化舱流体连通的处理舱;以及一个流量控制器,它在处理舱中控制蒸汽从蒸发器至热基材的流动,其中所述热基材具有这样的反应表面以致薄膜将在该表面上形成。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |