| 主权项 |
1.一种改善彩色滤光片制程色彩之方法,该方法至少包含以下之步骤:提供一基板,该基板上已形成复数个光电感测元件并且已形成导线连接、护层及平坦化感光光阻;形成一具有蓝色颜料之第一感光性材质于该平坦化感光光阻上;对该第一感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成一复数个蓝色滤光膜层及复数个第一凹陷区,每一该第一凹陷区围绕该蓝色滤光膜层;施以第一次烘焙处理;形成一具有绿色颜料之第二感光性材质于所有区域并填满该所有第一凹陷区;对该第二感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成复数个绿色滤光膜层及复数个第二凹陷区,其中该绿色滤光膜层位于该第一凹陷区,并且该第一蓝色滤光膜层和四个绿色滤光膜层及四个第二凹陷区构成一九宫格图形,每一该九宫格图形中心为蓝色滤光膜层,且该四个绿色滤光膜层系位于该蓝色滤光膜层之最邻近的四格,四个第二凹陷区位于该蓝色滤光膜层之四个次邻近四格,每两个相邻九宫格图形共有三格相共用,且使得每两格蓝色滤光膜层之间相邻仅一格绿色滤光膜层;施以第二次烘焙处理;形成一具有红色颜料之第三感光性材质于所有区域并填满该第二凹陷区;对该第三感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成复数个红色滤光膜层于第二凹陷区;及施以第三次烘焙处理。2.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之第一感光性材质是酚醛(novlac)如Fuji-Olim或CB-7001,SBV-S612或组成相近之同级品其中之一种。3.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之第二感光性材质是酚醛(novlac)如Fuji-Olim或CG-7001,SG-7100L或组成相近之同级品其中之一种。4.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之第三感光性材质是酚醛树脂(nov-lac)如Fuji-Olim或CR-7001,SR-7100L或组成相近之同级品其中之一种。5.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之蓝色滤光膜层的厚度约为1.0-1.2m。6.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之绿色滤光膜层的厚度约为1.5-1.8m。7.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之红色滤光膜层的厚度约为2.0-2.5m。8.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之第一感光性材质、第二感光性材质及第三感光性材质系以旋涂法涂布。9.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之第一次、第二次及第三次烘焙处理温度约为220-260℃,时间约为20-30分钟。10.一种改善彩色滤光片制程色彩之方法,该方法至少包含以下之步骤:提供一基板,该基板上已形成复数个光电感测元件并且已形成导线连接、护层及平坦化感光光阻;形成一具有蓝色颜料之第一感光性材质于该平坦化感光光阻上;对该第一感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成一复数个蓝色滤光膜层及复数个第一凹陷区,每一该第一凹陷区围绕该蓝色滤光膜层;施以第一次烘焙处理;形成一具有红色颜料之第二感光性材质于所有区域并填满该所有第一凹陷区;对该第二感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成复数个红色滤光膜层及复数个第二凹陷区,其中该红色滤光膜层位于该第一凹陷层,并且该每一蓝色滤光膜层和四个红色滤光膜层及四个第二凹陷区构成一九宫格图形,每一该九宫格图形中心为蓝色滤光膜层,且该四个红色滤光膜层系位于该蓝色滤光膜层之次邻近的四格,四个第二凹陷区位于该蓝色滤光膜层之四个最邻近四格,每两个相邻九宫格图形共有三格相共用且使得每两个蓝色滤光膜层之间相邻一个该第二凹陷区;施以第二次烘焙处理;形成一具有绿色颜料之第三感光性材质于所有区域并填满该第二凹陷区;对该第三感光性材质施以微影曝光、显影及水洗制程以形成复数个绿色滤光膜层于第二凹陷区;及施以第三次烘焙处理。11.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之第一感光性材质是酚醛树脂(novlac)如Fuji-Olim或CB-7001,SBV-S612或组成相近之同级品其中之一种。其中之一种。12.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之第二感光性材质是酚醛树脂(novlac)如Fuji-Olim或CR-7001或SR-7100L或组成相近之同级品其中之一种。13.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之第二感光性材质是酚醛树脂(novlac)如Fuji-Olim或CG-7001或SG-7100L或组成相近之同级品其中之一种。14.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之蓝色滤光膜层的厚度约为1.0-1.2m15.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之红色滤光膜层的厚度约为1.5-1.8m16.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之绿色滤光膜层的厚度约为2.0-2.5m17.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之第一感光性材质、第二感光性材质及第三感光性材质系以旋涂法涂布。18.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之第一次、第二次及第三次烘焙处理温度约为220-260℃,时间约为20-30分钟。图式简单说明:第一图显示依序为光电感测元件、保护层、平坦化材料、彩色滤光膜及间隙膜上的横截面示意图;第二图显示依据传统方法形成绿色滤光膜层及第一凹陷区的示意图;第三图A显示依据传统方法及红色滤光膜层及第二凹陷区的示意图,第三图B显示以原子力显微镜所得之照片;第四图显示依据传统方法以形成彩色滤光膜的示意图;第五图至第七图显示以本发明第一实施例之方法,形成依次形成蓝色滤光膜层、绿色滤光膜层、及红色滤光膜层的示意图;第八图显示各彩色滤光膜和厚度对穿透率影响的示意图;第九图至第十一图显示以本发明第二实施例之方法,形成依次形成蓝色滤光膜层、红色滤光膜层、及绿色滤光膜层的示意图;第十二图显示波长和穿透率之关系(在蓝、红、绿三色滤光膜在相同厚度条件下(1.3m)。 |
