发明名称 研磨垫用胺基甲酸乙酯成形物之制造方法及其成形物
摘要 揭示使于研磨垫用胺基甲酸乙酯成形物中含有粒子之大小不同的二种类之经予膨胀的微小中空球状体,而得该胺基甲酸乙酯成形物经切片而得的研磨垫之研磨特性的提高,及研磨垫间之研磨特性分散性较小的研磨垫用胺基甲酸乙酯成形物。一种异氰酸酯基终端胺基甲酸乙酯预聚物(A)及含活性氢化合物(B)之合计100重量分,粒子之大小为10~50μm之经予膨胀的微小中空球状体(C)与粒子大小为80~100μm之经予膨胀的微小中空球状体(D)之合计成为0.1~20重量分般添加混合微小中空球状体之研磨垫用肢基甲酸乙酯成形物之制造法,于该制造法,粒子之大小为10~50μm之经予膨胀的微小中空球状体(C)及/或粒子之大小为80~100μm之经予膨胀的微小中空球状体(D)系对异氰酸酯基终端胺基甲酸乙酯预聚物(A)及/或含活性氢化合物(B)预先混合。又,粒子之大小为10~50μm之经予膨胀的微小中空球状体(C)及粒子之大小为80~100μm之经予膨胀的微小中空球状体(D)之配合比率(C):(D)为1:0.5~2.0。又,含活性氢化合物(B)系可采用仅二胺系化合物(B-l),或二胺系化合物(B-l)及分子量500~1000之低分子二醇(B-2)之混合物。再者,本发明之研磨用胺基甲酸乙酯成形物系对胺基甲酸乙酯成形物100重量分,含有粒子大小为10~50μm之经予膨胀的微小中空球状体(C)及粒子大小为8O~100μm之经予膨胀的微小中空球状体(D)合计0.1~20重量分之比例。
申请公布号 TW436385 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW088113408 申请日期 1999.08.05
申请人 富士纺绩股份有限公司 发明人 木原胜志;望月吉见
分类号 B24D3/32;C08J5/14 主分类号 B24D3/32
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种研磨垫用胺基甲酸乙酯成形物之制造法,其 特征在于对异氰酸酯基终端胺基甲酸乙酯预聚物( A)及含活性氢化合物(B)之合计100重量分,粒子之大 小为10-50m之经予膨胀的微小中空球状体(C)与粒 子大小在80-100m之经予膨胀的微小中空球状体(D) 之合计成为0.1-20重量分般添加混合微小中空球状 体。2.如申请专利范围第1项之研磨垫用胺基甲酸 乙酯成形物之制造法,其中粒子大小为10-50m之经 予膨胀的微小中空球状体(C)及/粒子之大小为80-100 m之经予膨胀的微小中空球状体(D)系对异氰酸酯 基终端胺基甲酸乙酯预聚物(A)及/含活性氢化合物 (B)预先混合。3.如申请专利范围第1项或第2项之研 磨垫用胺基甲酸乙酯成形物之制造法,其中粒子之 大小为10-50m之经予膨胀的微小中空球状体(C)及 粒子之大小为80-100m之经予膨胀的微小中空球状 体(D)之配合比率(C):(D)为1:0.5-2.0。4.如申请专利范 围第1项至第3项之任一项之研磨垫用胺基甲酸乙 酯成形物之制造法,其中含活性氢化合物(B)仅系二 胺系化合物(B-1)或二胺系化合物(B-1)及分子量500- 1000之低分子二醇(B-2)之混合物。5.一种研磨垫用 胺基甲酸乙酯成形物,其特征在于对胺基甲酸乙酯 成形物100重量分含有粒子之大小为10-50m之经予 膨胀的微小中空球状体(C)及粒子之大小为80-100m 之经予膨胀的微小中空球状体(D)合计0.1-20重量分 。
地址 日本