| 主权项 |
1.一种光阻溶液涂布装置,包含:一个用以在支撑一被处理的构件时旋转之支撑及旋转构件;一个光阻溶液排出喷嘴,用以几乎在该被处理构件的旋转中心排出一个光阻溶液;一个用以供应该光阻溶液至该光阻溶液排出喷嘴之光阻溶液供应机构;及一个被连接到该光阻溶液供应机构之排出控制区间,用以控制一个从该光阻溶液排出喷嘴排出的光阻溶液量,以在排出已开始后被逐渐地或分级地减少。2.如申请专利范围第1项之光阻溶液涂布装置,其进一步包含一外壳,用于在该光阻溶液被排出或该被处理的构件被旋转时,气密密封在被处理构件周围的大气。3.如申请专利范围第2项之光阻溶液涂布装置,进一步包含一个用以与该被处理构件的旋转同步地旋转该外壳之外壳旋转机构。4.如申请专利范围第1项之光阻溶液涂布装置,其中该排出控制部份控制一个从该光阻溶液排出喷嘴排出的光阻溶液量,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着控制该被逐渐减少的量。5.如申请专利范围第1项之光阻溶液涂布装置,其中该排出控制部份控制一个被排至该光阻溶液排出喷嘴内的光阻溶液量,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着控制该被逐渐减少的量,且进一步控制该量以便再次被增加。6.如申请专利范围第1项之光阻溶液涂布装置,进一步包含一个旋转速度控制部份,用以控制一个由该支撑及旋转构件所决定的被处理构件之旋转速度,与由该排出控制部份的排出量控制同步。7.如申请专利范围第6项之光阻溶液涂布装置,其中该旋转速度控制部份控制由该支撑及旋转构件所决定的被处理构件之旋转速度,以便至少当被排至该光阻溶液排出喷嘴的光阻溶液量被控制逐渐地减少时为一定。8.如申请专利范围第6项之光阻溶液涂布装置,其中该排出控制部份控制从该光阻溶液排出喷嘴排出的光阻溶液量,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着控制该被逐渐地减少的量;且该旋转速度控制部份控制由该支撑及旋转构件所决定的被处理构件之旋转速度,以当从该光阻溶液排出喷嘴排出的光阻溶液量是一预定量时被加速,且控制该旋转速度以当该光阻溶液量被控制逐渐减少时为常数。9.如申请专利范围第6项之光阻溶液涂布装置,其中该排出控制部份控制一个被排至该光阻溶液排出喷嘴内的光阻溶液量,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着控制该量,以便被逐渐减少,且进一步控制该量,以便再次被增加;且该旋转速度控制部份控制由该支撑及旋转构件所决定的被处理构件之旋转速度,以当被排至该光阻溶液排出喷嘴的光阻溶液量是一预定量时被加速,控制该旋转速度以当该光阻溶液量被控制逐渐减少时为常数,且控制该旋转速度以当该光阻溶液量被控制再次增加时被减速。10.一种光阻溶液涂布装置,包含:一个用以在支撑一被处理的构件时旋转之支撑及旋转构件;一个外壳,用以在该被处理构件被旋转时气密该被处理构件周围的大气;一个光阻溶液排出喷嘴,用以几乎在该被处理构件的旋转中心排出一个光阻溶液;一个用以供应该光阻溶液至该光阻溶液排出喷嘴之光阻溶液供应机构;及一个被连接到该光阻溶液供应机构之排出控制区间,用以在排出已开始后变化一个从该光阻溶液排出喷嘴排出之光阻溶液量。11.一种涂布光阻溶液的方法,其包含之步骤为:供应该光阻溶液至一个被处理构件上;藉由在一个密封外壳内旋转该被处理构件而在该被处理构件上蔓延该光阻溶液;及控制一个被排至该被处理构件上之光阻溶液量,以在排出已开始后被逐渐地或分级地减少。12.如申请专利范围第11项之方法,其中在控制被排出的光阻溶液量之步骤中,该排至被处理构件上的光阻溶液量被控制,以便在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着被控制以便逐渐地减少。13.如申请专利范围第11项之方法,其中在控制被排出的光阻溶液量之步骤中,该排至被处理构件上的光阻溶液量被控制,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着被控制以便逐渐地减少,并且进一步被控制,以便在排出被停止前再次增加。14.如申请专利范围第12项之方法,进一步包含一个控制被处理构件的旋转速度之步骤,与该被排出的光阻溶液量的控制同步。15.如申请专利范围第14项之方法,其中在控制被处理构件的旋转速度之步骤中,至少当该被排至被处理构件上的光阻溶液量被逐渐减少时,该被处理构件的旋转速度被控制为一定。16.如申请专利范围第14项之方法,其中在控制被排出的光阻溶液量之步骤中,被排至被处理构件上的光阻溶液量被控制,以便在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着被控制以便逐渐减少;及在控制被处理构件的旋转速度之步骤中,该被处理构件的旋转速度被控制,以当被排至被处理构件上的光阻溶液量被控制为一预定量时被加速,且该旋转速度被控制成当该光阻溶液量被控制成逐渐减少时为常数。17.如申请专利范围第14项之方法,其中在控制被排出的光阻溶液量之步骤中,被排至被处理构件上的光阻溶液量被控制,以在一个从当排出被开始的时间至当该光阻溶液已蔓延至整个被处理构件的时间之周期内为一预定量,且接着被控制逐渐减少,并且进一步被控制在排出停止前再次增加;及在控制该被处理构件的旋转速度之步骤中,该被处理构件的旋转速度被控制,以当被排至被处理构件上的光阻溶液量被控制为一预定量时被加速,且该旋转速度被控制,以当该光阻溶液量被控制逐渐减少时为常数,进一步地该旋转速度被控制,以当该光阻溶液量被控制再次增加时被减速。图式简单说明:第一图是一个根据本发明实施例的光阻涂布/显像系统之透视图;第二图是一个第一图所示的光阻涂布装置之前视图;第三图是一个第一图所示的光阻涂布装置之平面图;第四图是一个显示第一图所示的光阻涂布装置的基本重要部份之侧视图;第五图A-第五图D为解释由一排出控制部份控制光阻溶液排出之图表;及第六图是一个解释由一旋转量控制机构自旋夹头的旋转量之图表。 |
