| 主权项 |
1.一种提供原料气体之方法,其作为制造平面光学 波导,该方法包含: 提供固定流量之液态原料,其流量小于0.5毫升/分 钟; 将该固定液态原料与注入气体混合; 提供汽化槽; 将液态原料与注入气体由注入开孔排出及进入汽 化槽; 将运载气体由注入开孔流入汽化槽,以及经由注入 开孔所排出之液态原料与注入气体之混合物; 在汽化槽内将液态原料汽化为原料气体; 将原料气体由汽化槽去除; 将原料气体传送至转化位置;以及 将汽化原料转化为矽石为主之玻璃以制造光学波 导。2.依据申请专利范围第1项之方法,其中提供固 定流量之液态原料更进一步包含提供固定流量之 液态原料,其流量小于0.1毫升/分钟。3.依据申请专 利范围第1项之方法,其中提供固定流量之液态原 料更进一步包含提供固定流量之液态原料,其流量 在0.01至0.09毫升/分钟范围内。4.依据申请专利范 围第1项之方法,其中提供固定流量之液态原料更 进一步包含提供固定流量之液态原料,其流量在0. 03至0.06毫升/分钟范围内。5.依据申请专利范围第1 项之方法,其中提供固定流量之液态原料更进一步 包含提供固定流量之液态原料,其流量在0.045至0. 055毫升/分钟范围内。6.依据申请专利范围第1项之 方法,其中将所提供固定流量之液态原料与注入气 体混合更进一步包含将液态原料与惰性注入气体 混合,其流量在0.01至0.15标准公升/分钟范围内。7. 依据申请专利范围第1项之方法,其中将所提供固 定流量之液态原料与注入气体混合更进一步包含 将液态原料与惰性注入气体混合,其流量在0.02至0. 1标准公升/分钟范围内。8.依据申请专利范围第1 项之方法,其中由注入开孔排出液态原料与注入气 体之混合物进入汽化槽更进一步包含由内径为0.15 ㎜至0.9㎜范围内之注入开孔排出液态原料与注入 气体之混合物。9.依据申请专利范围第8项之方法, 其中注入开孔内径在0.4至0.8㎜范围内。10.依据申 请专利范围第8项之方法,其中注入开孔内径在0.73 至0.79㎜范围内。11.依据申请专利范围第8项之方 法,其中注入开孔内径在0.75至0.77㎜范围内。12.依 据申请专利范围第1项之方法,其中混合与排出步 骤更进一步包含施力于液态原料与注入气体经过 纵向注入管件,该注入管系延伸进入汽化槽以及终 端具有注入开孔。13.依据申请专利范围第12项之 方法,其中施力于液态原料以及注入气体通过延伸 进入汽化槽之纵向注入管件更进一步包含施力于 液态原料通过纵向注入管件,其入口内径大于注入 开孔之内径。14.依据申请专利范围第8项之方法, 其中提供固定流量之液态原料之步骤更进一步包 含将液态矽氧烷与至少一种掺杂剂前身产物液体 混合以形成液态原料。15.依据申请专利范围第1项 之方法,其中将运载气体流入汽化槽经由注入开孔 ,以及经由注入开孔排出液态原料与注入气体混合 物之步骤更进一步包含流经惰性气体之运载气体, 其流量在0.1至0.3标准公升/分钟范围内。16.依据申 请专利范围第12项之方法,其中流动运载气体之步 骤更进一步包含惰性运载气体以0.1至0.3标准公升/ 分钟范围内之流量沿着一段纵向管件共轴地流动, 该管件包含一段纵向管件于汽化槽外侧。17.依据 申请专利范围第1项之方法,其中液态原料由至少 两种液态化合物之混合物所构成以及更进一步包 含对汽化槽加热之步骤,其加热至温度至少为液态 化合物之沸点。18.依据申请专利范围第12项之方 法,其中汽化槽,注入管件,运载气流具有共同之纵 向中心轴。19.一种在制造矽石玻璃中供应及传送 原料气体之装置,其包含: 一个构件作为提供固定流量之液态原料; 一个构件作为提供注入气流; 一个混合器,其中液态原料流动与注入气流混合; 一个纵向注入管件作为将与注入气流混合之液态 原料由混合器传送离开以及进入汽化槽; 一个构件作为流动邻近注入管件之运载气体以及 进入汽化槽,在其中注入至汽化槽之液态料与注入 气体之混合气体在汽化槽内被汽化为原料气体;以 及 一个构件作为将原料气体传送至矽石玻璃制造位 置,在其中原料被转化为矽石。20.依据申请专利范 围第19项之装置,其中矽石玻璃之制造更进一步包 含在平面光学线路中制造平面光学波导。21.依据 申请专利范围第19项之装置,其中传送原料气体至 矽石玻璃制造位置之构件更进一步包含一个构件 作为传送原料气体至转化位置燃烧器,其产生转化 位置火焰,其将原料气体转化为矽石粉尘,该矽石 粉尘沉积在沉积表面上。22.依据申请专利范围第 19项之装置,其中提供固定流量之液态原料之构件 包含非往复性泵。23.依据申请专利范围第19项之 装置,其中混合物包含管线接头,在其中液态原料 之流动横越过注入气流。24.依据申请专利范围第 23项之装置,其中混合物包含管线接头,在其中液态 原料之流动与注入气流垂直。25.依据申请专利范 围第19项之装置,其中纵向注入管件包含邻近于混 合器之入口以及邻近于汽化槽之远侧注入开孔,其 中注入开孔内径在0.15㎜至0.9㎜范围内。26.依据申 请专利范围第25项之装置,其中注入开孔内径在0.4 ㎜至0.8㎜范围内。27.依据申请专利范围第25项之 装置,其中注入开孔内径在0.73㎜至0.79㎜范围内。 28.依据申请专利范围第25项之装置,其中注入开孔 内径在0.75㎜至0.77㎜范围内。29.依据申请专利范 围第25项之装置,其中注入开孔内径为0.03英寸。30. 依据申请专利范围第25项之装置,其中流动邻近于 注入管件之运载气体以及进入汽化槽之构件包含 运载气体纵向管线,纵向注入管件延伸经过运载气 体管线,在其中运载气体沿着一段注入管件流动以 及邻近注入开孔以及经由注入开孔排出液态原料 与注入气体之混合物。31.依据申请专利范围第19 项之装置,其中汽化槽包含一段内径为8㎜至20㎜之 纵向管线。32.依据申请专利范围第31项之装置,其 中纵向注入管件,运载气体管线以及汽化槽实质上 为共线的以及共轴的。图式简单说明: 第一图揭示出本发明之汽化器系统。 第二图为第一图部份放大图以及揭示出本发明之 汽化器系统以及流经其中流体。 第三图为汽化器系统以及制造光学波导以及平面 光学线路之示意图。 第四图揭示出本发明注入管件。 |
