发明名称 PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING POLYCYCLIC POLYMERS WITH ACID LABILE PENDANT GROUPS
摘要
申请公布号 KR20010023941(A) 申请公布日期 2001.03.26
申请号 KR1020007002643 申请日期 2000.03.13
申请人 发明人
分类号 C08G61/08 主分类号 C08G61/08
代理机构 代理人
主权项
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