发明名称 |
Illumination system for a deep ultraviolet microscope |
摘要 |
<p>Eine Beleuchtungseinrichtung für ein DUV-Mikroskop (1) weist einen von einer DUV-Lichtquelle (5) ausgehenden Beleuchtungsstrahlengang (6) auf, in dem ein Kollektor (7) und ein Reflexionsfilter-System (9) angeordnet sind, welches ein DUV-Wellenlängenband erzeugt und aus vier Reflexionsfiltern (8) besteht. An diesen wird der Beleuchtungsstrahlengang (6) jeweils im gleichen Reflexionswinkel a reflektiert, wobei vor und hinter dem Reflexionsfilter-System (9) der Beleuchtungsstrahlengang (6) koaxial verläuft. Erfindungsgemäß beträgt der Reflexionswinkel α <= 0° und das DUV-Wellenlängenband besitzt eine Halbwertsbreite von max. 20 nm sowie einen Peak mit einem Spitzenwert S von über 90% der eingestrahlten Lichtintensität. Die erzielte sehr geringe Halbwertsbreite des DUV-Wellenlängenbandes ermöglicht, die DUV-Objektive des DUV-Mikroskops (1) sehr gut zu korrigieren. <IMAGE></p> |
申请公布号 |
EP1069449(A2) |
申请公布日期 |
2001.01.17 |
申请号 |
EP20000111442 |
申请日期 |
2000.05.27 |
申请人 |
LEICA MICROSYSTEMS WETZLAR GMBH |
发明人 |
DANNER, LAMBERT;VOLLRATH, WOLFGANG;EISENKRAEMER, FRANK;OSTERFELD, MARTIN;VEITH, MICHAEL |
分类号 |
G02B5/28;G02B5/26;G02B21/06;G02B21/16;(IPC1-7):G02B21/16 |
主分类号 |
G02B5/28 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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