发明名称 脉冲激光淀积装置
摘要 本实用新型涉及一种脉冲激光淀积装置。由真空室、转靶机构、样品架、加热炉、离子枪和真空抽气装置组成,其中真空室为球形,转靶机构和样品架分别安装在真空室里,相对设置,在一个中心线上,所述真空室球体上设有多个法兰窗,其中两个法兰窗在激光入射束与转靶机构靶面相交45°角处,于样品架两侧,安装离子枪于转靶机构一侧的真空室球体上,加热炉设在样品架上的两个磁力轴间,真空室底部与真空抽气装置接通。其设计合理、工作方便,效率高、噪声低。
申请公布号 CN2412019Y 申请公布日期 2000.12.27
申请号 CN99250781.2 申请日期 1999.12.24
申请人 中国科学院沈阳科学仪器研制中心 发明人 李求恕;冯彬;吕祺;孙荣昌;曾志群;潘福全;戚晖;金振奎;阎佐健
分类号 C23C14/24 主分类号 C23C14/24
代理机构 中国科学院沈阳专利事务所 代理人 朱光林;周秀梅
主权项 1.一种脉冲激光淀积装置,由真空室(1)、转靶机构(2)、样品架(3)、加热炉(4)、离子枪(5)和真空抽气装置(6)组成,其特征在于:其中所述真空室(1)为球形,所述转靶机构(2)和样品架(3)分别通过法兰安装在真空室(1)里,其样品架(3)与转靶机构(2)相对放置,并在一个中心线上,所述真空室(1)球体上设有多个法兰窗,其中两个法兰窗在激光入射束与转靶机构(2)靶面相交45°角处,于样品架(3)两侧,另安装一把清洗样品用离子枪(5)于转靶机构(2)一侧的真空室(1)球体上,所述加热炉(4)通过穿过真空室(1)球体上的法兰设在样品架(3)两个磁力轴(31)中间,真空室(1)底部与真空抽气装置(6)接通。
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