| 发明名称 | 用于平基片的真空室 | ||
| 摘要 | 一种用于平基片的真空室(2),具有用于输送基片的输送辊。输送辊(4)的两侧保持在轴承(3)内,在两轴承(3)之间,输送辊由至少一个中间轴承(5)辅助地支撑。中间轴承(5)分别设置在一支柱(8)上,该支柱密封地穿过真空室(2)的底板(1)上的一通孔(10),并支撑在底板(1)下的一基座(9)上。 | ||
| 申请公布号 | CN1275634A | 申请公布日期 | 2000.12.06 |
| 申请号 | CN00118721.X | 申请日期 | 2000.04.14 |
| 申请人 | 莱博德系统股份有限公司 | 发明人 | T·格贝勒;G·雷德林 |
| 分类号 | C23C14/00 | 主分类号 | C23C14/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨松龄 |
| 主权项 | 1.用于平基片的真空室，其内设有用于输送基片的输送辊，输送辊的两端分别由一轴承支撑，并设置在真空辊的一底板的上方，其特征在于：在两外轴承(3)之间，输送辊(4)至少由一个中间轴承(5)辅助地支撑着，各中间轴承设置在一个支柱(8)上，该支柱密封地穿过真空室(2)的底板(1)上的一个通孔(10)，并支撑在底板(1)下面的一个支座(9)上。 | ||
| 地址 | 联邦德国哈瑙 | ||