| 主权项 |
1.一种在基底材料表面形成之不起雾且抗反射薄膜,其包括一种由无机烷氧化物水解产物于至少存在一种聚丙烯酸化合物下进行聚缩作用制得之组成物。2.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该无机烷氧化物之水解作用和该无机烷氧化物之聚缩作用系于存在一种聚丙烯酸化合物下进行。3.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该基底材料和该不起雾抗反射薄膜之折射指数和厚度满足下列关系式:ns>nf0.05<nfdf<1.5其中ns是基底材料之折射指数,nf是最外层不起雾且抗反射薄膜之折射指数,df是最外层不起雾且抗反射薄膜之厚度,而是光线波长(在400至830nm范围内)。4.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该无机烷氧化物系为至少一选自异丙醇铝、四异丙醇钛、B(OC2H5)3及Zr(O-t-C4H9)4。5.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该无机烷氧化物至少为一种由Aell(O-异-C3H7)3,Ti(O-异-C3H7)4,Zr(O-第三-C4H9)4,及B(OC2H5)3组成集合中选出者。6.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该丙烯酸化合物系至少一种由聚丙烯酸,聚甲基丙烯酸及其盐类选出者。7.如申请专利范围第1项之不起雾且抗反射薄膜,其中该无机烷氧化物如申请专利范围第4项所定义,而使用之丙烯酸化合物如申请专利范围第6项所定义。8.一种在具有折射指数ns的基底材料表面形成之不起雾且抗反射薄膜,包括一具有折射数nf及厚度df的外层,及一具有折射指数n2及厚度d2紧邻外层之第二层,该外层包括一组合物,系得自至少在聚丙烯酸化合物存在下实施的无机烷氧化物之水解产物的聚缩合作用,其中这二层之折数指数及厚度满足下列关系式:n2>ns>nf,0.05<nfdf<1.5,和0.05<n2d2<1.5其中是光线波长(范围为400至830nm)。9.如申请专利范围第8项之不起雾且抗反射薄膜,其中形成外侧第二层之无机烷氧化物系为至少一选自异丙醇铝、四异丙醇钛、B(OC2H5)3及Zr(O-t-C4H9)410.如申请专利范围第9项之不起雾且抗反射薄膜,其中该无机烷氧化物为至少为一种由Si(OC2H5)4,Aell(O-异-C3H7)3,Ti(O-异-C3H7)4,Zr(O-第三-C4H9)4,和Zr(O-正-C4H9)4,选出者。11.一种光学组件,其于基底材料表面形成一层不起雾且抗反射薄膜,该不起雾且抗反射薄膜包括一种由无机烷氧化物之水解产物于存在至少一种聚丙烯酸化合物下进行聚缩作用制得之组成物。12.如申请专利范围第11项之光学组件,其中该基底材料系由镜片,光学平行面板,镜子和棱镜中选出。13.一种制造不起雾且抗反射薄膜之方法,其包括在基底材料表面涂覆一种含有一种无机烷氧化物,无机烷氧化物之水解产物和该水解产物之低分子量聚缩物至少一者;一种聚丙烯酸;和用于该水解产物聚缩作用之触媒之反应溶液;并加热处理该涂覆薄膜。14.如申请专利范围第13项之制造起雾且抗反射薄膜之方法,其中该触媒为N,N-二甲基苄胺。15.如申请专利范围第13项之制造起雾且抗反射薄膜之方法,其中该热处理以不低于80℃之温度进行。 |
