发明名称 阴极射线管曝光装置之光量校正滤光器
摘要 【课题】在用于阴极射线管曝光装置之光量校正滤光器,防止和阴罩板发生干涉条纹。【解决手段】在将光量校正滤光器l之有效面部2分割成多个正方形,在各小区域5具有正方形之不透明部3和透明之其他部分4后,改变该不透明部3之正方形之部分之面积,使得具有所要之透射率之光量校正滤光器l,藉着以相对于阴极射线管之水平方向倾斜45°之排列构成正方形之小区域5及不透明部3、透明部4,虽然描绘间隔A和知的一样,却可使得光量校正滤光器之水平及垂直之间隔变成知之l/(√2),可便宜地防止和阴罩板发生干涉条纹。
申请公布号 TW410362 申请公布日期 2000.11.01
申请号 TW087115569 申请日期 1998.09.18
申请人 电气股份有限公司 发明人 深尾宗司
分类号 H01J9/227 主分类号 H01J9/227
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种阴极射线管曝光装置之光量校正滤光器,用于阴极射线管曝光装置,其特征在于:将其有效面部分割成多个小区域,把各小区域分成正方形之不透明部分和透明之其他部分后,改变该不透明部分之宽度使得具有所要之透射率分布而且将正方形之小区域及不透明部之排列相对于阴极射线管之水平方向倾斜规定之倾斜角度。2.如申请专利范围第1项所述之阴极射线管曝光装置之光量校正滤光器,其中将该倾斜角度设为45。3.如申请专利范围第1项所述之阴极射线管曝光装置之光量校正滤光器,其中将该正方形之小区域之边长设为100-250m。图式简单说明:第一图系本发明之光量校正滤光器之平面图。第二图系本发明之光量校正滤光器之有效面部之放大图。第三图系一般性曝光装置之构造图。第四图系习知之光量校正滤光器之有效面部之放大图。
地址 日本