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发明名称
METHOD FOR REDUCING TOPOGRAPHY-DEPENDENT CHARGING EFFECTS IN PLASMA ENHANCED SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号
KR20000063075(A)
申请公布日期
2000.10.25
申请号
KR1020000016520
申请日期
2000.03.30
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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