涂层工艺调节方法

摘要

本发明涉及对于在一片基片上经过涂布形成一层涂层用的涂布工序进行调节的一种方法,采用可靠、简单、可监控的测定方法,测定照射在涂层基片上的光束经过透射之后的强度,以此作为调节涂层厚度之用。

主权项

1.在一种具有衍射结构的基片上涂布一层涂层的涂布工艺的调节方法，其中对于照射在有涂层的基片上的光束在用于至少一级衍射的光束的透射之后，求出其光强度，从而推导出作为调节涂层厚度的实际值。