发明名称 用于阴影光罩之铁–镍合金材料
摘要 用于阴影光罩之铁一镍合金材料的供应能够在蚀刻时控制带状不均匀缺陷之发展。铁一镍合金中包含30到55wt%的镍和平衡用的锰,铁,和无法避免的杂质,.锰的含量限制在1.0wt%或更小且无法避免的杂质之矽和磷的含量分别是0.05wt%或更小和O.O1wt%或更小,且镍的元素浓度差异在微分凝部分用于蚀刻之合金材料的截面为3%或更小,矽,锰,和磷的元素浓度差异在镍的元素浓度差异测量的点分别为0.02%或更小,O.l%或更小,和0.002%或更小。矽,锰,磷或其组合和镍之间的元素浓度差异在相同的点时最好位于设计的范围内。在镍分凝部分中的镍浓度差异和矽,锰,和磷的元素浓度差异共同存在的部分中将加以控制以避免平行带状的发展。
申请公布号 TW404984 申请公布日期 2000.09.11
申请号 TW085111995 申请日期 1996.10.02
申请人 日金属股份有限公司 发明人 小野俊之
分类号 C22C38/00;H01J29/07 主分类号 C22C38/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种用于阴影光罩之铁-镍合金材料,包含30到4Owt %的镍和余量为锰,铁,和无法避免的 杂质,其特征为锰的含量限制到0.5wt%或更小且无法 避免的杂质之矽和磷的含量分别控制到 0.05wt%或更小及0.005wt%或更小,且镍的元素浓度差异 在用于蚀刻之合金材料的截面的微 分凝部分为2%或更小,且矽,锰,磷的元素浓度差异 在镍的元素浓度差异测量的点分别为 0.02%或更小,0.1%或更小及0.002%或更小; 而且其中矽的元素浓度差异在镍的元素浓度差异 测量的点落在公式(1)的范围内 矽浓度差异≦1.510-2/镍浓度差异 (1); 其中锰的元素浓度差异在镍的元素浓度差异测量 的点落在公式(2)的范围内 锰浓度差异≦7.510-2/镍浓度差异 (2); 其中磷的元素浓度差异在镍的元素浓度差异测量 的点落在公式(3)的范围内 磷浓度差异≦1.510-3/镍浓度差异 (3); 其中矽,锰,和磷的元素浓度差异在镍的元素浓度 差异测量的点落在公式(4)的范围内 (10矽浓度差异+锰浓度差异+100磷浓度差异)≦0.3/ 镍浓度差异 (4)。图式简单说明: 第一图为例举元素浓度差异的定义之图示。 第二图为例举镍分凝部分在蚀刻表面的图示。
地址 日本
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