| 发明名称 |
Lithographic method and mask for producing an exposure pattern on a substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0016237(D0) |
申请公布日期 |
2000.08.23 |
| 申请号 |
GB20000016237 |
申请日期 |
2000.06.30 |
| 申请人 |
IMS IONEN-MIKROFABRIKATIONS SYSTEME GMBH |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/302;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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