发明名称 Processo para remover impurezas de poliol a partir de uma solução de éster de sorbitano, e, produto
摘要 "PROCESSO PARA REMOVER IMPUREZAS DE POLIOL A PARTIR DE UMA SOLUçãO DE éSTER DE SORBITANO, E, PRODUTO". Processo para remoção de impurezas de polióis de uma solução de éster de sorbitano envolvendo: (a) fornecimento de uma solução de éster de sorbitano contendo impurezas de polióis; (b) a adição a uma solução de éster de sorbitano de uma quantidade de um componente de sílica, efetivo na clarificação; (c) a adsorção das impurezas do poliol da solução de éster de sorbitano, sobre a sílica, para formar uma mistura de éster de sorbitano e sílica contendo poliol; e (d) remoção da sílica contendo poliol da solução de éster de sorbitano.
申请公布号 BR9812725(A) 申请公布日期 2000.08.22
申请号 BR19980012725 申请日期 1998.09.17
申请人 HENKEL CORPORATION 发明人 JEFF A. BARNHORST;DEAN A. OESTER
分类号 C07D307/20;(IPC1-7):C07D307/02 主分类号 C07D307/20
代理机构 代理人
主权项
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