| 主权项 |
/AIT{1.一种从复数个基板利用离心分离除去附着液的旋转乾燥器中,其特征为;具备:}/ait{下部具主轴之旋转体;}/ait{相对于该旋转体的主轴而保持与基板面正交之复数个基板,且对称设置于上述旋转体主轴而与旋转体同时旋转的基板保持装置;}/ait{包围上述旋转体及上述基板保持装置之处理容器;}/ait{将空气导入该处理容器内而形成在处理容器上部之空气导入口;及,}/ait{至少从上述处理容器底部开口至上述旋转体高度位置的排气口。}/AIT{2.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器,其中更具备连通上述排气口之排气导管;及,}/ait{设置于将上述处理容器所排出的排气中之液体成份从气体成份中分离用上述排气管内的气液分离构件。}/AIT{3.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器其中更具备设置于上述空气导入口而具有在其中央流通空气的空气孔之天板;}/ait{设于该天板上方的环状流器;及,}/ait{于该环状滤器上方从外周围朝中央向下倾斜之遮蔽导板。}/AIT{4.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器,其中于上上述空气导入口上更具备除去静电用静电除去装置。}/AIT{5.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器,其中将上述处理容器的底面形成朝上述旋转体的转动方向逐渐下降之坡度,且朝着上述排气口形成向下之坡度者。}/AIT{6.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器,其中上述基板保持装置具备:}/ait{至少形成有保持各基板用复数个槽之一对接触支持构件;}/ait{分别与上述接触支持构件卡合而与上述旋转体同时一体转动,且可摆动支持而改变基板姿势之至少一对摇篮;及,}/ait{使上述摇篮相互间水平方向相对移动之第1相对移动装置。}/AIT{7.如申请专利范图第1项所记载之旋转乾燥器,其中上述基板保持装置具备:}/ait{形成有保持各基板用复数个槽之一对接触支持构件;}/ait{分别与上述接触支持构件卡合而与上述旋转体同时一体转,且可摆动支持而改变基板姿势之至少一对摇篮,}/ait{另外,使上述接触支持构件具有从上述摇篮突出之升降装置。}/AIT{8.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾操器,其中上述基板保持装置具备:}/ait{至少形成有保持各基板用复数个槽之一对接触支持构件;}/ait{分别与上述接触支持构件卡合而与上述旋转体同时一体转动,且可摆动支持而改变基板姿势之至少一对摇篮,}/ait{另外,旋转乾燥器具备使一侧接触支持构件一侧从上述摇篮突出之第1升降装置;}/ait{可分别独立驱动该第1升降构件而使另一侧之接触支持构件从另一侧摇篮突出之第2升降装置;及,}/ait{使上述第1升降装置与上述第2升降装置水平方向相对移动之第2相对移动装置。}/AIT{9.如申请专利范围第1项所记载之旋转乾燥器,其中上述基板保持装置具备:}/ait{至少形成有保持各基板用复数个槽之一对接触支持构件;}/ait{分别与上述接触支持构件卡合而与上述旋转体同时一体转动,且可摆动支持而改变基板姿势之至少一对摇篮,}/ait{另外,旋转乾燥器具备使上述摇篮相互之间水平方向相对移动之第1相对移动装置;及,}/ait{使上述接触支持构件从上述摇篮突出之升降装置。}/AIT{10.一种从复数个基板利用离心分离除去附着液的旋转乾燥器中,其特征为;具备:}/ait{下部具主轴之旋转体;}/ait{转动该旋转体之旋转装置;}/ait{收容该旋转装置之室;}/ait{相对于该旋转体的主轴而保持与基板面正交之复数个基板,且对称设置于上述旋转体主轴而与旋转体同时旋转之至少一对基板保持装置;}/ait{包围上述旋转体及上述基板保持装置之处理容器;}/ait{将空气导入该处理容器内而形成在处理容器上部的空气导入口;}/ait{形成于上述处理容器之侧部,至少从上述处理容器底部开口至上述旋转体高度位置的排气口;}/ait{连通该排气口的排气管;}/ait{连通上述旋转体的主轴与可自由转动支撑该主轴的封闭盖的间隙间之轴排气管;}/ait{连通于至少可收容上述旋转装置之室的室排气管;及,}/ait{将上述轴排气管的开口端部设置于上述室排气管内,使来自轴排气管的排气合流于室排气管内的排气流。}/AIT{11.如申请专利范围第10项所记载之旋转乾燥器,其中上述轴排气管的开口端部系于室排气管内形成向下游侧弯曲而成者。}/AIT{12.一种利用离心分离将附着液从复数个基板除去之旋转乾燥器中,其特征为具备:}/ait{利用旋转装置旋转之旋转体;}/ait{相对于该旋转体的轴而配设在对称位置上,可保持基板之至少一对基板保持装置;}/ait{安装于上述旋转体上,具有以直线覆盖上述支持装置之一对侧壁的脚,}/ait{上述基板保持装置,具有:}/ait{与上述侧壁平行之壁部;及,}/ait{在上述旋转体半径方向开口之通气口。}/AIT{13.如申请专利范围第12项所记载之旋转乾燥器,其中更具有设于上述脚的侧壁与基板保持装置的壁部之间,而与两者平行之整流板。}/AIT{14.一种利用离心分离将附着液从复数个基板除去之旋转乾燥器中,其特征为具备:}/ait{利用旋转装置旋转之旋转体;}/ait{相对于该旋转体的轴而配设在对称位置上,可保持基板之至少一对基板保持装置;}/ait{包围上述旋转体及基板保持装置之处理容器;}/ait{安装于上述旋转体上,具有以直线覆盖上述基板保持装置侧方之一对侧壁的脚,}/ait{上述基板保持装置,具有:}/ait{与上述侧壁平行之壁部;及,}/ait{在上述旋转体半径方向开口之通气口,}/ait{上述处理容器,具有:}/ait{形成相对于上述旋转体的旋转中心位置之空气导入口;及,}/ait{设于侧壁的一部份上,至少从底部延伸至上述旋转体高度位置的排气口。}/AIT{15.如申请专利范围第14项所记载之旋转乾燥器,其中滴水孔为开设在与上述脚的侧壁之上述旋转体旋转方向相对的位置上。}/AIT{16.如申请专利范围第14项所记载之旋转乾燥器,其中于上述基板保持装置端部突设有覆盖以此基板保持装置保持之基板露出面的遮蔽导板所成者。}/AIT{17.一种利用离心分离将附着液从复数个基板除去之旋转乾燥器中,其特征为具备:}/ait{利用旋转装置旋转之旋转体;}/ait{配设在该旋转体的轴对称位置上而可保持基板之至少一对基板保持装置;}/ait{使该等基板保持装置互相相对移动之相对移动装置;}/ait{分别使各基板保持装置倾动之倾动装置;}/ait{具有设于上述基板保持装置,而可保持基板下部侧用复数个槽之下部支持体;}/ait{具有可保持基板两侧周围之复数个槽的支持框体;及,上述下部支持体相对于上述支持框体升降之升降装置。}/AIT{18.如申请专利范围第17项所记载之旋转乾操器,其中上述下部支持体在从基板最下端部偏离位置上具有保持基板的2根第1保持棒,及较第1保持棒的外侧位置上保持基板的2根第2保持棒。}/AIT{19.如申请专利范围第18项所记载之旋转乾燥器,其中上述第1保持棒的槽系形成剖面V字形,}/ait{上述第2保持棒的槽具备剖面V字形槽部,及从该V字形槽部的开口端朝着扩开的方向呈平缓倾斜之扩开槽部。}/AIT{20.如申请专利范围第17项所记载之旋转乾燥器,其中上述下部支持体具备从基板最下端部偏离位置上保持基板的2根第1保持棒,及较第1保持棒的外侧位置上保持基板的2根第2保持棒,及支持上述第1及第2保持棒之支持基部,}/ait{至少藉铝合金制构件形成上述支持基部,同时以氟树脂含浸处理该铝合金制构件的表面。}/AIT{21.一种利用离心分离将附着液从复数个基板除去之旋转乾燥器中,其特征为具备:}/ait{利用旋转装置水平转动之旋转体;}/ait{设置可于该旋转体的轴对称位置上倾动而可支持复数个基板之至少一对支持装置;}/ait{具上部开口而可收容上述旋转体与支持装置之处理室;}/ait{覆盖上述处理室上部开口之盖;}/ait{移动上述支持装置之移动装置;及,}/ait{可开关上述盖之开关装置,}/ait{利用上述移动装置移动上述支持装置时,可藉上述开关装置使上述盖开关动作者。}/AIT{22.一种利用离心分离将附着液从复数个基板除去之基板乾燥方法中,其特征为:}/ait{(a)一次接受复数个量之匣体的基板使基板可以等节距间隔垂直配列,}/ait{(b)将所接受之基板至少分成两群组,}/ait{(c)以各群组将基板从垂直位置改变为水平位置,}/ait{(d)藉第1旋转加速开始转动全群组的基板,}/ait{(e)使基板转数达到预定之最大转数为止,以大于上述第1旋转加速度之第2旋转加速度使全群组的基板随替旋转而加速。}/AIT{23.如申请专利范围第22项所记载之方法,其中更将基板的转动保持在一定的最大转数之后,以第1之转动减速转动基板。}/AIT{24.如申请专利范围第23项所记载之方法,其中从上述第1转动减速变更至第2转动减速,以第2转动减速转动基板使基板的转动停止为止。}/AIT{25.如申请专利范围第24项所记载之方法,其中从上述第1转动减速移换至第2转动减速时,可暂时使基板的转动减速减至零者。}/AIT{26.如申请专利范围第22项所记载之方法,其中上述工程(d)、(e)是从上方一边供应乾燥用空气的同时,而在基板较下方的位置上朝着侧方排气者。}/tt第一图是表示基板清洗乾燥处理系统之整体概要透视图。第二图是表示本发明旋转乾燥器从正面所视之透视概要前视图。第三图是表示本发明旋转乾燥器从正面所视之透视概要前视图。第四图是表示本发明旋转乾燥器从侧面所视之外观侧视图。第五图是表示旋转乾燥器要部之部份剖视图。第六图是表示旋转体、支持装置、摇篮之透视图。第七图是表示其他旋转体、支持装置、摇篮之透视图。第八图是表示乾燥处理容器底部之剖面透视图。第九图是表示轴排气管与室排气管合流部份之纵剖视图。第十图是表示从上方所视摇篮及其周边构件之俯视图。第十一图是表示支持基板用支持装置之概要前视图。第十二图是表示支持装置之概要侧视图。第十三图是表示说明支持装置之晶圆的移载与保持状态用支持装置之部份剖视图。第十四图是表示藉支持装置(晶圆保持部)所支持晶圆之概要图。第十五图A是表示沿第十四图中XVA-XVA线切断之晶圆保持部的剖视图、第十五图B是表示沿第十四图中XVB-XVB线切断之晶圆保持部的剖视图、第十五图C是表示沿第十四图中XVC-XVC线切断之晶圆保持部的剖视图。第十六图是表示传递晶圆之支持装置的俯视图。第十七图是表示水平位置之支持装置的透视概要图。第十八图是表示旋转乾操器要部之部份剖视图。第十九图A-第十九图J是分别表示利用旋转乾燥器乾燥处理基板时,各动作时之旋转乾燥器的透视概要图。第二十图为旋转乾燥器旋转时之转数的经时变化,分别比较本发明方法与习知而表示之特性线图。第二十一图A-第二十一图C是分别表示利用其他旋转乾燥器乾燥处理基板时,各动作时之旋转乾燥器的透视概要图。 |
