发明名称 双光源照射系统
摘要 一种双源照射系统,包括响应一驱动电压可偏转到第一或第二位置的可偏转单元阵列,和从不同角度指向该阵列的两个光源,当偏转单元在两个位置间迅速前后转动,两个源在“on”和“off”条件下与反射阵列的动作同步动作,从两个源来的光沿垂直于阵列的轴反射回,这种结构可在高功下驱动光源,产生光的高输出,是低功驱动的单源输出的2倍。
申请公布号 CN1054923C 申请公布日期 2000.07.26
申请号 CN94109395.6 申请日期 1994.08.08
申请人 皇家菲利浦电子有限公司 发明人 W·F·居尔林诺特
分类号 G02F1/01 主分类号 G02F1/01
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 马铁良;王岳
主权项 1.一双光源照射系统,包括:一数字式微反射镜器件,具有反射单元的平面阵列,和一个垂直于阵列平面的轴,所述单元响应第一驱动电压可偏转到第一位置,响应第二驱动电压可偏转到第二位置;使所述单元周期性地在第一和第二位置之间循环的电压驱动装置;当所述单元处于第一位置时,处于第一离轴位置的用来照射数字式微反射镜器件的第一照射源;当所述单元处理第二位置时,处于第二离轴位置用来照射数字式微反射镜器件的第二照射源;与驱动装置同步地交替驱动所述源的装置,使所述单元在第一位置时所述第一源工作(on),所述单元在第二位置时所述第二源工作(on)。
地址 荷兰艾恩德霍芬