发明名称 | 双光源照射系统 | ||
摘要 | 一种双源照射系统,包括响应一驱动电压可偏转到第一或第二位置的可偏转单元阵列,和从不同角度指向该阵列的两个光源,当偏转单元在两个位置间迅速前后转动,两个源在“on”和“off”条件下与反射阵列的动作同步动作,从两个源来的光沿垂直于阵列的轴反射回,这种结构可在高功下驱动光源,产生光的高输出,是低功驱动的单源输出的2倍。 | ||
申请公布号 | CN1054923C | 申请公布日期 | 2000.07.26 |
申请号 | CN94109395.6 | 申请日期 | 1994.08.08 |
申请人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 发明人 | W·F·居尔林诺特 |
分类号 | G02F1/01 | 主分类号 | G02F1/01 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 马铁良;王岳 |
主权项 | 1.一双光源照射系统,包括:一数字式微反射镜器件,具有反射单元的平面阵列,和一个垂直于阵列平面的轴,所述单元响应第一驱动电压可偏转到第一位置,响应第二驱动电压可偏转到第二位置;使所述单元周期性地在第一和第二位置之间循环的电压驱动装置;当所述单元处于第一位置时,处于第一离轴位置的用来照射数字式微反射镜器件的第一照射源;当所述单元处理第二位置时,处于第二离轴位置用来照射数字式微反射镜器件的第二照射源;与驱动装置同步地交替驱动所述源的装置,使所述单元在第一位置时所述第一源工作(on),所述单元在第二位置时所述第二源工作(on)。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |