发明名称 |
Optical system, especially for a projection exposure system for microlithography, having a optical mount comprising actuators |
摘要 |
<p>Ein optisches System, insbesondere für Projektions-Belichtungsanlagen der Mikrolithografie, insbesondere mit schlitzförmigem Bildfeld oder nicht-rotationssymmetrischer Beleuchtung, weist ein optisches Element 1, insbesondere eine Linse oder einen Spiegel, das in einer Fassung 7 oder einem Innenring 2 angeordnet ist, und Aktuatoren 8a, 8b und 9a, 9b auf. Zur Erzeugung von Zug- und/oder Druckkräften greifen an dem deformierbaren Innenring 2 über eine radiale Kraft-Weg-Übersetzung 12, 13 mehrere Aktuatoren 8a, 8b und 9a, 9b an. <IMAGE></p> |
申请公布号 |
EP1014139(A2) |
申请公布日期 |
2000.06.28 |
申请号 |
EP19990124503 |
申请日期 |
1999.12.09 |
申请人 |
CARL ZEISS;CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS |
发明人 |
MERZ, ERICH, DIPL.-ING.;BECKER, JOCHEN, DIPL. |
分类号 |
H01L21/027;G02B7/00;G02B7/02;G02B7/182;G03F7/20;(IPC1-7):G02B7/02;G02B3/14;G02B27/00;G02B7/192 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|