| 发明名称 | 超硬纳米多层薄膜及其制作工艺 | ||
| 摘要 | 本发明在金属或陶瓷或其他材料的基体上利用反应溅射沉积法制取NbN层和TaN层多层薄膜,根据使用求交替制取NbN层和TaN层。多层薄膜制取工艺为:首先将金属或陶瓷或其他材料的基体表面作镜面抛光处理,利用反应溅射沉积法制取多层薄膜,交替制取NbN层和TaN层,各层厚度控制在1.5nm～9.0nm,且厚度比为1,交替沉积多层薄膜总厚度为1μm～3μm。 | ||
| 申请公布号 | CN1254032A | 申请公布日期 | 2000.05.24 |
| 申请号 | CN99124104.5 | 申请日期 | 1999.11.24 |
| 申请人 | 上海交通大学 | 发明人 | 李戈扬;许俊华;金燕苹;戴嘉维;顾明元 |
| 分类号 | C23C14/06;C23C14/34;C04B41/87;C04B41/89 | 主分类号 | C23C14/06 |
| 代理机构 | 上海交通大学专利事务所 | 代理人 | 王锡麟;马伟敏 |
| 主权项 | 1、一种超硬纳米多层薄膜，其特征在于在金属或陶瓷或其他材料的基体1上利用反应溅射沉积法制取NbN层2和TaN层3多层薄膜，根据使用求交替制取NbN层2和TaN层3。 | ||
| 地址 | 200030上海市华山路1954号 | ||