| 主权项 |
1.一种适用化学机械抛光之驱动系统,包含: 一基底载具,支持基底靠近抛光面以抛光基底,基 底载具有一面接触基底; 基底载具置于支承结构,支承结构可沿二实质垂直 方向导引基底线性移动; 至少一线性驱动器与支承结构配合;及 一驱动器与基底载具配合,驱动器提供力至至少一 部分面,沿着与二实质垂直方向垂直之第三方向。 2.如申请专利范围第1项之驱动系统,另包含: 一基座,其上可动置有支承结构; 其中支承结构具第一支承相对基座可动于二实 质垂直方向之一;及 第二支承置于第一支承上,相对第一支承可 动于二实质垂直方向另一。3.如申请专利范围第2 项之驱动系统,其中至少一线性驱动器包含: 第一线性马达,置于基座与第一支承之间;及 第二线性马达,置于第一支承与第二支承之间 。4.如申请专利范围第3项之驱动系统,第一支承 具一对侧边平行并排于二实质垂直方向之一,第二 支承具一对侧边平行并排于二实质垂直方向另 一; 其中第一线性马达置于基座与第一支承该对侧 边之一之间,第二线性马达置于第一支承与第二 支承该对侧边之一; 至少一线性驱动器另具第三线性马达置于基座与 第一支承该对侧边另一之间,第四线性马达置于 第一支承与第二支承该对侧边另一之间。5. 如申请专利范围第4项之驱动系统,另包含: 至少一挠座设置第一及第三线性马达之一至第一 支承;及 至少一挠座设置第二及第四线性马达之一至第二 支承。6.如申请专利范围第1项之驱动系统,另包 含一圆柱连接基底载具与驱动器; 其中圆柱传送一驱动力由驱动器至基底载具,同时 限制基底载具移动于驱动力之垂直方向。7.如申 请专利范围第1项之驱动系统,另包含一测位器接 至驱动器,以感应基底载具沿驱动器所生驱动力方 向之位置。8.如申请专利范围第7项之驱动系统,其 中测位器包含一编码器。9.如申请专利范围第7项 之驱动系统,其中测位器包含线性可变差分转换器 。10.如申请专利范围第1项之驱动系统,其中驱动 器包含一声音线圈马达。11.如申请专利范围第1项 之驱动系统,其中驱动器由支承结构支承。12.如申 请专利范围第11项之驱动系统,另包含支承臂置于 驱动器外部而由支承结构支承。13.如申请专利范 围第12项之驱动系统,另包含: 一支承环,置于支承结构并接至支承臂。14.如申请 专利范围第1项之驱动系统,另包含 一支承设备连接基底载具与支承结构。15.如申请 专利范围第14项之驱动系统,其中支承设备包含: 可移位支承件,连接基底载具与支承结构,其中可 控制可移位支承件之位移调整基底载具沿第三方 向之位置,且其中可移位支承件支承基底载具之质 量。16.如申请专利范围第15项之驱动系统,其中可 移位支承件支至驱动器至少一部分质量。17.如申 请专利范围第15项之驱动系统,另包含: 一圆柱连接基底载具与支承结构; 其中支承设备另包含至少一连结件连结可移位支 承件至圆柱。18.如申请专利范围第13项之驱动系 统,另包含一圆柱连接基底载具与支承结构;圆柱 位于支承环实质中央。19.如申请专利范围第18项 之驱动系统,另包含至少一稳定器连接圆柱于支承 环,至少一稳定器允许圆柱相对支承环垂直移动, 并实质防止圆柱于相对支承环垂直之方向移动。 20.如申请专利范围第19项之驱动系统,其中至少一 稳定器包含至少一螺旋曲片。21.如申请专利范围 第18项之驱动系统,另包含一夹持曲片置于支承环, 并可释放地夹持圆柱,其中当夹持住圆柱不可移动 于第三方向,但松夹时可由驱动器移动。22.如申请 专利范围第1项之驱动系统,其中至少一线性驱动 器与支承结构配合,包含一板件及多数与板件分开 而置于基底载具之磁铁。23.如申请专利范围第22 项之驱动系统,其中驱动器包含多数磁铁提供沿第 三方向之力,系藉由多数磁铁与板件间所生吸力。 24.如申请专利范围第22项之驱动系统,其中板件包 含多数突起沿二实质垂直方向成列延伸,突起可选 择通电以于通电之突起与磁铁间产生力,磁铁由多 数磁铁选出,并与通电突起对齐。25.一种适用抛光 之线性驱动系统,包含: 一基底载具,供支持基底靠于抛光面以抛光基底; 一支承结构支承基底载具并可导引基底载具沿二 实质垂直方向线性移动;及 一驱动器,配合基底载具而由支承结构支承,驱动 器提供驱动力至基底载具沿着与二实质垂直方向 实质垂直之第三方向。26.如申请专利范围第25项 之线性驱动系统,其中支承结构包含第一支承可 移动于二实质垂直方向一;及 第二支承置于第一支承上,并可相对第一支承 移动于二实质垂直方向另一。27.如申请专利范 围第26项之线性驱动系统,另包含: 一基座,其上可动设置第一支承; 第一对线性马达置于基座与第一支承之间,以驱 动第一支承相对于基座;及 第二对线性马达置于第一支承与第二支承之 间,以驱动第二支承相对于第一支承。28.如申 请专利范围第25项之线性驱动系统,另包含一夹持 曲片置于支承结构并可释放地固定基底载具于第 三方向之位置,其中基底载具由夹持曲片固定时不 能于第三方向移动,但夹持曲片松脱时可由驱动器 移动。29.一种适用抛光之线性驱动系统,包含: 一基底载具,供支持基底靠于抛光面以抛光基底; 多数磁铁置于基底载具;及 一板件具多数突起成列沿二实质垂直方向延伸,突 起可选择通电产生力于通电突起与磁铁之间,磁铁 由多数磁铁选出,并与通电突起对齐。30.如申请专 利范围第29项之线性驱动系统,其中基底载具包含 一实质平坦面供抛光时施压力至基底,其中多数磁 铁置于实质平坦面周界。31.如申请专利范围第29 项之线性驱动系统,其中基底载具包含一实质平坦 面于抛光时压靠基底,其中多数磁铁置于与实质平 坦面而为共平面。32.如申请专利范围第29项之线 性驱动系统,另包含一驱动器调整多数磁铁对板件 之距离。33.如申请专利范围第29项之线性驱动系 统,另包含一抛光片置于基底载具与板件间,其中 基底载具可控制移动基底靠近抛光片及板件以抛 光基底。34.如申请专利范围第33项之线性驱动系 统,另包含一交换区由板件伸越抛光片尺寸一部分 而形成,交换区有一开口尺寸略大于基底,但小于 基底载具。图式简单说明: 第一图为实施本发明线性驱动机构较佳例之设备 立体图; 第二图为第一图线性驱动机构X-Z部分立体图; 第三图为第二图之X-Z部分平面图,由第二图右方观 察; 第四图为第一图Z驱动器所结合螺栓曲片立体图; 第五图为第一图例中所用夹持曲片平面图; 第六图为本发明所用线性马达较佳例端视图; 第七图为第六图线性马达固定部顶视图; 第八图为实施开放式线性马达另例立体图; 第九图为连接Z驱动器与载具之圆柱视图,及所用 支承系统; 第十图为本发明挠座分解图; 第十一图为本发明线性驱动机构另例立体图; 第十二图为第十一图抛光面另例截面图; 第十三图为用于第一图线性驱动机构之载具截面 图; 第十四图为第十三图载具底视图; 第十五图为用于第十一图线性驱动机构之另载具 截面图; 第十六图为第十四图所示载具底视图;及 第十七图为第十三图变化载具截面图。 |
