发明名称 | 用于外延生长半导体层的金属有机化合物的制备 | ||
摘要 | 用通式为MR<SUB>3</SUB>的金属有机化合物或其胺加合物在基体上通过外延半导体层的生长制备的半导体器件,R是烷基基团。所说的金属有机化合物是用格利雅试剂在胺类溶剂中与金属卤化物反应制备的。 | ||
申请公布号 | CN1051553C | 申请公布日期 | 2000.04.19 |
申请号 | CN95194873.3 | 申请日期 | 1995.09.04 |
申请人 | 国防大臣 | 发明人 | A·C·琼斯;S·A·鲁施沃斯;T·马丁;T·J·怀塔克;R·W·夫里尔 |
分类号 | C07F5/00;C30B25/02 | 主分类号 | C07F5/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 徐汝巽 |
主权项 | 1.一种在基体上生长半导体层的方法,包括以下步骤:将通式MR3的金属有机化合物输送到基体上,式中R为烷基,该化合物是由格利雅试剂与金属卤化物反应而制备的,和由金属有机化合物在基体上沉积金属,其特征在于,所述的格利雅试剂与金属卤化物的反应在叔胺溶剂中进行。 | ||
地址 | 英国伍斯特郡 |