| 主权项 |
1.一种加工系统设置于一个单元区,该单元区藉分隔件而与共用区划分开,该加工系统供加工经由物件之输送容器由共用区输送来自待加工物件,该加工系统包含:一个罩住容器之腔室供罩住由共用区输送来自输送容器;一个清洁腔室其设置毗邻罩住容器之腔室;及一个载荷闸室设置毗邻清洁腔室;其中该清洁腔室具有一根进气管供将清洁气体引进清洁腔室内及一个压力控制装置供控制清洁腔室内部压力;及该载荷闸室具有输送单元其可经由清洁腔室延伸至罩住容器之腔室,俾由罩于罩住容器腔室内之输送容器内去除物件通过清洁腔室至载荷闸室。2.如申请专利范围第1项之加工系统,其中:该压力控制装置包含:一个阀供调整进气管之气体流速;一个差压表供检测清洁腔室压力与大气压间之差压,及一个阀控制器供基于差压表检测结果调整阀之开启程度,故清洁腔室之压力为正压。3.如申请专利范围第1项之加工系统,其中:该清洁腔室系设置于进气管之清洁腔室侧缘封闭部分,及具有一个通风装置供将进气管引进之清洁气体通风至清洁腔室。4.如申请专利范围第1项之加工系统,其中:该清洁腔室包含:一根循环管线供循环由通风装置于清洁腔室内通风之气体;及一个过滤器设置于循环管线,供由循环于循环管线之气体去除微粒或杂质气体。5.如申请专利范围第1项之加工系统,其中:该进气管连结清洁腔室与共用区而将清洁气体由共用区引进清洁腔室内部。6.如申请专利范围第1项之加工系统,其中:该系统包含一个惰性气体供给器;及该进气管连结清洁腔室与惰性气体供给器而将清洁气体由惰性气体供给器引进清洁腔室内部。7.一种控制于加工系统之气体之方法,该加工系统设置于一个单元区,该单元区藉分隔件而与共用区划分开,该加工系统供加工经由物件之输送容器由共用区输送来自待加工物件,该加工系统包含一个罩住容器之腔室供罩住由共用区输送来自输送容器,一个清洁腔室其设置毗邻罩住容器之腔室,及一个载荷闸室设置毗邻清洁腔室,其中该清洁腔室具有一根进气管供将清洁气体引进清洁腔室内及一个压力控制装置供控制清洁腔室内部压力,及该载荷闸室具有输送单元其可经由清洁腔室延伸至罩住容器之腔室,俾由罩于罩住容器腔室内之输送容器内去除物件通过清洁腔室至载荷闸室,该方法包含下列步骤:将清洁气体由共用区通过进气管引进清洁腔室内部;及藉压力控制装置维持清洁腔室之压力为正压。8.如申请专利范围第7项方法,其又包含下列步骤:排放被引进清洁腔室之气体;及将被排放之气体通过过滤器再度引进清洁腔室内部。9.一种控制于加工系统之气体之方法,该加工系统设置于一个单元区,该单元区藉分隔件而与共用区划分开,该加工系统供加工经由物件之输送容器由共用区输送来自待加工物件,该加工系统包含一个罩住容器之腔室供罩住由共用区输送来自输送容器,一个清洁腔室其设置毗邻罩住容器之腔室,一个载荷闸室设置毗邻清洁腔室,及一个惰性气体供给器,其中该清洁腔室具有一根进气管供将清洁气体引进清洁腔室内及一个压力控制装置供控制清洁腔室内部压力,及该载荷闸室具有输送单元其可经由清洁腔室延伸至罩住容器之腔室,俾由罩于罩住容器腔室内之输送容器内去除物件通过清洁腔室至载荷闸室,该方法包含下列步骤:将来自惰性气体供给器之惰性气体通过进气管引进清洁腔室内部;及藉压力控制装置维持清洁腔室之压力为正压。10.如申请专利范围第7项之方法,其又包含下列步骤:排放被引进清洁腔室之惰性气体;及将被排放之惰性气体通过过滤器再度引进清洁腔室内部。图式简单说明:第一图为根据本发明之加工系统之一个具体例中,晶圆转运区段之示意剖面图;第二图为一个荚之透视图,其盖系藉如第一图所示之开启器开启;第三图为根据本发明之加工系统之另一个具体例中,晶圆转运区段之示意剖面图;及第四图为习知加工系统之范例之示意剖面图。 |
