发明名称
摘要 X-ray absorber in an X-ray mask and a method for manufacturing the same which includes a first layer of crystalline phase formed on a predetermined portion of the surface of a membrane and a second layer of amorphous phase formed on the first layer.
申请公布号 JP3002963(B2) 申请公布日期 2000.01.24
申请号 JP19970253201 申请日期 1997.09.18
申请人 发明人
分类号 G03F1/22;G21K1/10;H01L21/027 主分类号 G03F1/22
代理机构 代理人
主权项
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