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发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS FOR DRY ETCHING OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 KR100235931(B1) 申请公布日期 1999.12.15
申请号 KR19960040424 申请日期 1996.09.17
申请人 NIPPON ELECTRIC K.K. 发明人 YOSHIDA, KAJUYOSHI
分类号 H05H1/46;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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