| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11327150(A) |
申请公布日期 |
1999.11.26 |
| 申请号 |
JP19980177312 |
申请日期 |
1998.06.24 |
| 申请人 |
MITSUBISHI CHEMICAL CORP |
发明人 |
KUSAKA HIROSHI;HATA KAZUYUKI |
| 分类号 |
G03F7/027;C08F290/06;G03F7/075;H05K3/06;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/075 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
