| 发明名称 |
PASSIVE SHIELD FOR CVD WAFER PROCESSING WHICH PROVIDES FRONTSIDE EDGE EXCLUSION AND PREVENTS BACKSIDE DEPOSITIONS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100225703(B1) |
申请公布日期 |
1999.10.15 |
| 申请号 |
KR19930000769 |
申请日期 |
1993.01.21 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INCOPORATED |
发明人 |
CHENG, DAVID;CHANG, MEI |
| 分类号 |
C23C14/50;C23C16/00;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/283 |
主分类号 |
C23C14/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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