| 发明名称 |
MANGANESE-IRIDIUM ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC THIN FILM, MAGNETIC THIN FILM AND PRODUCTION OF MANGANESE-IRIDIUM ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC THIN FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11264070(A) |
申请公布日期 |
1999.09.28 |
| 申请号 |
JP19980088240 |
申请日期 |
1998.03.18 |
| 申请人 |
JAPAN ENERGY CORP |
发明人 |
SHINDO YUICHIRO;SUZUKI TSUNEO |
| 分类号 |
C22C1/02;C22C5/04;C22C22/00;C23C14/34;H01F10/08;H01F10/32;H01F41/18;H01L43/10;H01L43/12;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C22C1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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